光学系统

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201811344964.2
申请日
2018-06-20
公开(公告)号
CN109212752B
公开(公告)日
2019-01-15
发明(设计)人
吕赛锋 闻人建科
申请人
申请人地址
315400 浙江省宁波市余姚市舜宇路66-68号
IPC主分类号
G02B2700
IPC分类号
G06K900
代理机构
北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 11204
代理人
王达佐;王艳春
法律状态
实质审查的生效
国省代码
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共 50 条
[41]
光学系统、光学装置和制造光学系统的方法 [P]. 
铃木笃 .
中国专利 :CN104145200A ,2014-11-12
[42]
光学系统、光学装置以及光学系统的制造方法 [P]. 
大竹史哲 .
中国专利 :CN114258506A ,2022-03-29
[43]
光学系统、光学装置以及光学系统的调整方法 [P]. 
三轮哲史 ;
山下雅史 .
中国专利 :CN107407790A ,2017-11-28
[44]
成像光学系统 [P]. 
王亚亚 .
中国专利 :CN111722375A ,2020-09-29
[45]
成像光学系统 [P]. 
高漥豊 .
中国专利 :CN204557033U ,2015-08-12
[46]
广角光学系统 [P]. 
水泽圣幸 .
中国专利 :CN107111114B ,2017-08-29
[47]
成像光学系统 [P]. 
臼井彬寿 ;
高漥豊 .
中国专利 :CN107203032A ,2017-09-26
[48]
投影光学系统 [P]. 
孟祥月 ;
陈威望 ;
宋立通 ;
励维芳 ;
贺凌波 ;
戴付建 .
中国专利 :CN121209064A ,2025-12-26
[49]
成像光学系统 [P]. 
佐藤良祐 .
日本专利 :CN120847991A ,2025-10-28
[50]
光学系统、具备该光学系统的光学设备以及光学系统的制造方法 [P]. 
山下雅史 .
中国专利 :CN107250869A ,2017-10-13