转印片、转印片的制造方法、光学层叠体及光学层叠体的制造方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201780012925.X
申请日
2017-02-07
公开(公告)号
CN108700698B
公开(公告)日
2018-10-23
发明(设计)人
齐木裕树 安西昭裕 加藤峻也 稻田宽 冲和宏
申请人
申请人地址
日本东京都
IPC主分类号
G02B530
IPC分类号
B32B2730 G02F113363
代理机构
北京三友知识产权代理有限公司 11127
代理人
庞东成;张志楠
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
转印材料、层叠体及层叠体的制造方法 [P]. 
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[2]
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[3]
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转印材料及其制造方法、层叠体及其制造方法 [P]. 
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[5]
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[6]
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转印膜及具有导体图案的层叠体的制造方法 [P]. 
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[8]
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[10]
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