极紫外光刻掩模缺陷检测系统

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201210104156.5

申请日：

2012-04-10

公开(公告)号：

CN103365073B

公开(公告)日：

2013-10-23

发明(设计)人：

李海亮谢常青刘明李冬梅牛洁斌史丽娜朱效立

申请人：

申请人地址：

100029 北京市朝阳区北土城西路3号

IPC主分类号：

G03F144

IPC分类号：

代理机构：

北京华沛德权律师事务所 11302

代理人：

刘丽君

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2015-07-01	授权	授权
2013-11-20	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101542128556 IPC(主分类):G03F 1/44 专利申请号:2012101041565 申请日:20120410
2013-10-23	公开	公开

共 50 条

[1]

极紫外光刻掩模缺陷检测系统 [P].

李海亮 ;

谢常青 ;

刘明 ;

李冬梅 ;

牛洁斌 ;

史丽娜 ;

朱效立 ;

王子欧 .

中国专利 :CN103424985A ,2013-12-04

[2]

极紫外光刻掩模白板缺陷检测系统真空腔 [P].

龚文涛 ;

金春水 ;

周名相 ;

肖相辅 ;

李旭鹏 .

中国专利 :CN118258758A ,2024-06-28

[3]

极紫外光刻掩模缺陷的补偿方法 [P].

宋晓伟 ;

张瀚之 ;

林景全 ;

李博超 .

中国专利 :CN118050953A ,2024-05-17

[4]

极紫外光刻掩模 [P].

N·佩伦斯 ;

V·菲利普森 .

:CN119987118A ,2025-05-13

[5]

极紫外光刻掩模多层膜相位型缺陷检测方法 [P].

成维 ;

李思坤 ;

王向朝 ;

张子南 .

中国专利 :CN110297401B ,2019-10-01

[6]

用于极紫外光刻的掩模拼接 [P].

R·M·伊瓦诺 ;

Z·A·莱文森 ;

K·D·卢卡斯 ;

J·E·伯多夫 .

美国专利 :CN120161666A ,2025-06-17

[7]

极紫外光刻厚掩模缺陷的快速仿真方法 [P].

刘晓雷 ;

李思坤 ;

王向朝 ;

步扬 .

中国专利 :CN103197503A ,2013-07-10

[8]

极紫外光刻系统 [P].

陈思妤 ;

郑博中 ;

陈立锐 ;

许哲彰 ;

杨基 .

中国专利 :CN112305870A ,2021-02-02

[9]

用于极紫外光刻的相移掩模 [P].

金成洙 ;

金东完 ;

徐焕锡 .

韩国专利 :CN113534598B ,2025-03-25

[10]

用于极紫外光刻的相移掩模 [P].

金成洙 ;

金东完 ;

徐焕锡 .

中国专利 :CN113534598A ,2021-10-22

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