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极紫外光刻掩模缺陷的补偿方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202410368567.8
申请日
:
2024-03-28
公开(公告)号
:
CN118050953A
公开(公告)日
:
2024-05-17
发明(设计)人
:
宋晓伟
张瀚之
林景全
李博超
申请人
:
长春理工大学
申请人地址
:
130022 吉林省长春市卫星路7089号
IPC主分类号
:
G03F1/84
IPC分类号
:
G03F1/22
代理机构
:
长春中科长光知识产权代理事务所(普通合伙) 22218
代理人
:
张羽
法律状态
:
公开
国省代码
:
吉林省 长春市
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2024-05-17
公开
公开
2024-06-04
实质审查的生效
实质审查的生效IPC(主分类):G03F 1/84申请日:20240328
共 50 条
[1]
极紫外光刻掩模缺陷检测系统
[P].
李海亮
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李海亮
;
谢常青
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谢常青
;
刘明
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刘明
;
李冬梅
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李冬梅
;
牛洁斌
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牛洁斌
;
史丽娜
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史丽娜
;
朱效立
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朱效立
.
中国专利
:CN103365073B
,2013-10-23
[2]
极紫外光刻掩模
[P].
N·佩伦斯
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机构:
IMEC非营利协会
IMEC非营利协会
N·佩伦斯
;
V·菲利普森
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机构:
IMEC非营利协会
IMEC非营利协会
V·菲利普森
.
:CN119987118A
,2025-05-13
[3]
极紫外光刻掩模缺陷检测系统
[P].
李海亮
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李海亮
;
谢常青
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谢常青
;
刘明
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刘明
;
李冬梅
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李冬梅
;
牛洁斌
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牛洁斌
;
史丽娜
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史丽娜
;
朱效立
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朱效立
;
王子欧
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王子欧
.
中国专利
:CN103424985A
,2013-12-04
[4]
极紫外光刻掩模阴影效应补偿方法
[P].
张子南
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张子南
;
李思坤
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李思坤
;
王向朝
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王向朝
;
成维
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成维
.
中国专利
:CN111045289A
,2020-04-21
[5]
极紫外光刻厚掩模缺陷的快速仿真方法
[P].
刘晓雷
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刘晓雷
;
李思坤
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李思坤
;
王向朝
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王向朝
;
步扬
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步扬
.
中国专利
:CN103197503A
,2013-07-10
[6]
用于极紫外光刻的掩模拼接
[P].
R·M·伊瓦诺
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机构:
新思科技有限公司
新思科技有限公司
R·M·伊瓦诺
;
Z·A·莱文森
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机构:
新思科技有限公司
新思科技有限公司
Z·A·莱文森
;
K·D·卢卡斯
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新思科技有限公司
新思科技有限公司
K·D·卢卡斯
;
J·E·伯多夫
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机构:
新思科技有限公司
新思科技有限公司
J·E·伯多夫
.
美国专利
:CN120161666A
,2025-06-17
[7]
极紫外光刻掩模白板缺陷检测系统真空腔
[P].
龚文涛
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机构:
中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
龚文涛
;
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机构:
金春水
;
周名相
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机构:
中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
周名相
;
肖相辅
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机构:
中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
肖相辅
;
李旭鹏
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机构:
中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
李旭鹏
.
中国专利
:CN118258758A
,2024-06-28
[8]
极紫外光刻光源掩模优化方法
[P].
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机构:
张子南
;
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机构:
李思坤
;
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机构:
王向朝
;
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机构:
成维
;
胡少博
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机构:
中国科学院上海光学精密机械研究所
中国科学院上海光学精密机械研究所
胡少博
;
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机构:
刘珍
.
中国专利
:CN112394615B
,2024-02-09
[9]
极紫外光刻光源掩模优化方法
[P].
张子南
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张子南
;
李思坤
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李思坤
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王向朝
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王向朝
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成维
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成维
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胡少博
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胡少博
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刘珍
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刘珍
.
中国专利
:CN112394615A
,2021-02-23
[10]
极紫外光刻掩模及其制造方法
[P].
郑文豪
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郑文豪
.
中国专利
:CN113050360A
,2021-06-29
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