极紫外光刻光源掩模优化方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202011279713.8

申请日：

2020-11-16

公开(公告)号：

CN112394615B

公开(公告)日：

2024-02-09

发明(设计)人：

张子南李思坤王向朝成维胡少博刘珍

申请人：

中国科学院上海光学精密机械研究所

申请人地址：

201800 上海市嘉定区清河路390号

IPC主分类号：

G03F1/76

IPC分类号：

G03F1/80 G03F7/20

代理机构：

上海恒慧知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31317

代理人：

张宁展

法律状态：

授权

国省代码：

北京市

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-02-09	授权	授权

共 50 条

[1]

极紫外光刻光源掩模优化方法 [P].

张子南 ;

李思坤 ;

王向朝 ;

成维 ;

胡少博 ;

刘珍 .

中国专利 :CN112394615A ,2021-02-23

[2]

一种极紫外光刻光源-掩模联合优化方法 [P].

马旭 ;

陈譞博 ;

汪杰 ;

李艳秋 .

中国专利 :CN104914684A ,2015-09-16

[3]

一种极紫外光刻掩模优化方法 [P].

马旭 ;

汪杰 ;

陈譞博 ;

李艳秋 .

中国专利 :CN104635434A ,2015-05-20

[4]

极紫外光刻掩模 [P].

N·佩伦斯 ;

V·菲利普森 .

:CN119987118A ,2025-05-13

[5]

极紫外光刻掩模及其制造方法 [P].

郑文豪 .

中国专利 :CN113050360A ,2021-06-29

[6]

一种极紫外光刻掩模优化方法及系统 [P].

刘世元 ;

何玭炫 ;

刘佳敏 ;

谷洪刚 ;

江浩 .

中国专利 :CN117807955A ,2024-04-02

[7]

极紫外光刻掩模缺陷的补偿方法 [P].

宋晓伟 ;

张瀚之 ;

林景全 ;

李博超 .

中国专利 :CN118050953A ,2024-05-17

[8]

用于极紫外光刻的相移掩模 [P].

金成洙 ;

金东完 ;

徐焕锡 .

韩国专利 :CN113534598B ,2025-03-25

[9]

极紫外光刻掩模缺陷检测系统 [P].

李海亮 ;

谢常青 ;

刘明 ;

李冬梅 ;

牛洁斌 ;

史丽娜 ;

朱效立 .

中国专利 :CN103365073B ,2013-10-23

[10]

用于极紫外光刻的相移掩模 [P].

金成洙 ;

金东完 ;

徐焕锡 .

中国专利 :CN113534598A ,2021-10-22

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