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钝化层干法刻蚀方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN200910198097.0
申请日
:
2009-10-29
公开(公告)号
:
CN102054685B
公开(公告)日
:
2011-05-11
发明(设计)人
:
孙武
王新鹏
申请人
:
申请人地址
:
201203 上海市浦东新区张江路18号
IPC主分类号
:
H01L21311
IPC分类号
:
代理机构
:
北京德琦知识产权代理有限公司 11018
代理人
:
王一斌;王琦
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2011-05-11
公开
公开
2011-06-29
实质审查的生效
实质审查的生效 号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101081907004 IPC(主分类):H01L 21/311 专利申请号:2009101980970 申请日:20091029
2012-05-30
授权
授权
共 50 条
[1]
干法刻蚀机台及干法刻蚀方法
[P].
高鹏飞
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高鹏飞
;
丁玎
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丁玎
.
中国专利
:CN109755159B
,2019-05-14
[2]
干法刻蚀方法
[P].
丁向前
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丁向前
;
刘耀
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刘耀
;
陈曦
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陈曦
;
李梁梁
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李梁梁
;
白金超
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白金超
;
刘晓伟
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刘晓伟
.
中国专利
:CN103996621A
,2014-08-20
[3]
干法刻蚀方法
[P].
汪新学
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汪新学
;
王伟军
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王伟军
.
中国专利
:CN102254812A
,2011-11-23
[4]
干法刻蚀机台及干法刻蚀方法
[P].
李国强
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机构:
广州市艾佛光通科技有限公司
广州市艾佛光通科技有限公司
李国强
;
衣新燕
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机构:
广州市艾佛光通科技有限公司
广州市艾佛光通科技有限公司
衣新燕
.
中国专利
:CN117096067B
,2024-03-01
[5]
干法刻蚀射频放电增强方法和干法刻蚀设备
[P].
张杰
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张杰
.
中国专利
:CN113394091A
,2021-09-14
[6]
干法刻蚀方法
[P].
吴智勇
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吴智勇
;
邱华军
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邱华军
.
中国专利
:CN102693911A
,2012-09-26
[7]
干法刻蚀方法
[P].
吴贤丰
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机构:
苏州山河光电科技有限公司
苏州山河光电科技有限公司
吴贤丰
;
延宇豪
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机构:
苏州山河光电科技有限公司
苏州山河光电科技有限公司
延宇豪
;
邱山峰
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机构:
苏州山河光电科技有限公司
苏州山河光电科技有限公司
邱山峰
;
孙磊
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机构:
苏州山河光电科技有限公司
苏州山河光电科技有限公司
孙磊
.
中国专利
:CN119038485A
,2024-11-29
[8]
干法刻蚀装置
[P].
高国浩
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高国浩
.
中国专利
:CN218123350U
,2022-12-23
[9]
干法刻蚀方法
[P].
吴智勇
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吴智勇
;
荆泉
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荆泉
;
陈力钧
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陈力钧
.
中国专利
:CN109727857B
,2019-05-07
[10]
干法刻蚀方法
[P].
崔红星
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崔红星
;
代大全
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代大全
;
吕睿
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吕睿
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李大勇
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李大勇
.
中国专利
:CN101211751A
,2008-07-02
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