半导体元件、半导体装置、及其制造方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201280009601.8
申请日
2012-09-03
公开(公告)号
CN103548142A
公开(公告)日
2014-01-29
发明(设计)人
庭山雅彦 内田正雄
申请人
申请人地址
日本大阪府
IPC主分类号
H01L2978
IPC分类号
H01L21336 H01L2906 H01L2912
代理机构
中科专利商标代理有限责任公司 11021
代理人
樊建中
法律状态
专利申请权、专利权的转移
国省代码
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共 50 条
[1]
半导体元件及其制造方法 [P]. 
内田正雄 .
中国专利 :CN110120428A ,2019-08-13
[2]
半导体元件及半导体装置 [P]. 
内田正雄 .
中国专利 :CN202394977U ,2012-08-22
[3]
半导体元件及其制造方法 [P]. 
内田正雄 ;
田中康太郎 .
中国专利 :CN103180959B ,2013-06-26
[4]
半导体元件以及半导体装置 [P]. 
内田正雄 .
中国专利 :CN102668094B ,2012-09-12
[5]
半导体元件以及半导体元件制造方法 [P]. 
小林光 ;
长泽弘幸 ;
八田直记 ;
河原孝光 .
中国专利 :CN101919032A ,2010-12-15
[6]
半导体元件及其制造方法 [P]. 
黄仲麟 .
中国专利 :CN111162075A ,2020-05-15
[7]
半导体元件以及半导体装置 [P]. 
小野瑞城 .
中国专利 :CN101483193B ,2009-07-15
[8]
半导体元件以及半导体元件的制造方法 [P]. 
河原弘幸 .
日本专利 :CN118786589A ,2024-10-15
[9]
半导体元件及半导体元件的制造方法 [P]. 
绵谷力 .
日本专利 :CN118715602A ,2024-09-27
[10]
半导体元件、半导体装置以及半导体元件的制造方法 [P]. 
生野彻 ;
大西孝治 ;
西岛直也 .
日本专利 :CN120600698A ,2025-09-05