光刻设备、用于调平物体的方法以及光刻投影方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200880120635.8

申请日：

2008-12-22

公开(公告)号：

CN101918898B

公开(公告)日：

2010-12-15

发明(设计)人：

P·G·W·布辛克 A·J·A·布鲁恩斯莫 H·J·M·梅杰尔

申请人：

申请人地址：

荷兰维德霍温

IPC主分类号：

G03F900

IPC分类号：

G03F720

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司 11021

代理人：

王波波

法律状态：

专利权的终止

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2018-12-07	专利权的终止	未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G03F 9/00 申请日:20081222 授权公告日:20120926 终止日期:20171222
2011-02-16	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101037087878 IPC(主分类):G03F 9/00 专利申请号:2008801206358 申请日:20081222
2010-12-15	公开	公开
2012-09-26	授权	授权

共 50 条

[1]

光刻设备、器件制造方法以及用于光刻设备的投影元件 [P].

A·J·布里克 ;

D·J·P·A·弗兰肯 ;

M·L·内森 ;

S·劳西 .

中国专利 :CN100526989C ,2006-06-07

[2]

用于光刻设备的调焦调平系统 [P].

唐平玉 ;

房晓俊 .

中国专利 :CN104950583A ,2015-09-30

[3]

光刻设备和光刻投影方法 [P].

R·A·C·M·比伦斯 ;

A·F·J·德格鲁特 .

中国专利 :CN102645849A ,2012-08-22

[4]

光刻设备、用于维护光刻设备的方法以及器件制造方法 [P].

A·布里克尔 ;

M·胡克斯 ;

T·凯蒂 .

中国专利 :CN103492952A ,2014-01-01

[5]

光刻设备以及光刻方法 [P].

张俊霖 ;

张汉龙 ;

傅中其 ;

刘柏村 ;

陈立锐 ;

郑博中 .

中国专利 :CN110858058A ,2020-03-03

[6]

用于调平验证测试的方法及校准光刻投影设备的方法 [P].

刘洋 ;

胡华勇 ;

邓国贵 .

中国专利 :CN105988302A ,2016-10-05

[7]

用于光刻设备的调焦调平系统及测量方法 [P].

李志丹 ;

程雪 ;

陈飞彪 .

中国专利 :CN103365096B ,2013-10-23

[8]

光刻设备、用于将物体定位在光刻设备中的方法以及器件制造方法 [P].

S·C·布勒斯 .

中国专利 :CN106104385B ,2016-11-09

[9]

用于光刻设备的全局调平的装置和方法 [P].

齐景超 ;

陈飞彪 .

中国专利 :CN104111596A ,2014-10-22

[10]

光刻设备的垂向控制方法以及光刻设备 [P].

褚占占 ;

李煜芝 ;

赵晓伟 .

中国专利 :CN116047866B ,2025-09-16

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