复合卷绕ITO柔性基材单鼓立式连续磁控溅射真空设备

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN201520531413.2

申请日：

2015-07-21

公开(公告)号：

CN204918748U

公开(公告)日：

2015-12-30

发明(设计)人：

庄志杰周钧刘战合

申请人：

申请人地址：

215024 江苏省苏州市苏州工业园区港田璐99号港田工业坊18号厂房一楼

IPC主分类号：

C23C1435

IPC分类号：

C23C1456 C23C1408

代理机构：

江苏银创律师事务所 32242

代理人：

王纪营

法律状态：

专利申请权、专利权的转移

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2019-04-12	专利申请权、专利权的转移	专利权的转移 IPC(主分类):C23C 14/35 登记生效日:20190322 变更事项:专利权人变更前权利人:赛柏利安工业技术（苏州）有限公司变更后权利人:基迈克材料科技（苏州）有限公司变更事项:地址变更前权利人:215024 江苏省苏州市苏州工业园区港田璐99号港田工业坊18号厂房一楼变更后权利人:215200 江苏省苏州市吴江区汾湖经济开发区汾杨路东侧
2015-12-30	授权	授权

共 39 条

[1]

复合卷绕ITO 柔性基材单鼓立式连续磁控溅射真空设备 [P].

庄志杰 ;

周钧 ;

刘战合 .

中国专利 :CN105063561A ,2015-11-18

[2]

常温多层ITO柔性基材单鼓立式连续气相沉积设备系统 [P].

庄志杰 ;

周钧 ;

刘战合 .

中国专利 :CN105887014A ,2016-08-24

[3]

常温多层ITO柔性基材单鼓立式连续气相沉积设备系统 [P].

庄志杰 ;

周钧 ;

刘战合 .

中国专利 :CN205011827U ,2016-02-03

[4]

超薄柔性基材真空双面磁控溅射镀铜卷绕镀膜设备 [P].

罗志明 ;

罗军文 ;

陸创程 ;

牛二辉 ;

李志荣 .

中国专利 :CN218321595U ,2023-01-17

[5]

柔性基材磁控溅射卷绕镀膜机 [P].

谈琦 .

中国专利 :CN204385288U ,2015-06-10

[6]

柔性基材双面磁控溅射卷绕镀膜机 [P].

谈琦 .

中国专利 :CN204509447U ,2015-07-29

[7]

柔性基材磁控溅射卷绕镀膜机 [P].

谈琦 .

中国专利 :CN104513967B ,2015-04-15

[8]

柔性基材双面磁控溅射卷绕镀膜机 [P].

谈琦 .

中国专利 :CN104593743B ,2015-05-06

[9]

卷对卷磁控溅射真空设备 [P].

孟凡杰 ;

房臣德 .

中国专利 :CN223496592U ,2025-10-31

[10]

一种柔性基材磁控溅射镀膜设备 [P].

龙志光 .

中国专利 :CN209276622U ,2019-08-20

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