常温多层ITO柔性基材单鼓立式连续气相沉积设备系统

被引:0
专利类型
实用新型
申请号
CN201520532476.X
申请日
2015-07-21
公开(公告)号
CN205011827U
公开(公告)日
2016-02-03
发明(设计)人
庄志杰 周钧 刘战合
申请人
申请人地址
215024 江苏省苏州市苏州工业园区港田璐99号港田工业坊18号厂房一楼
IPC主分类号
C23C1408
IPC分类号
C23C1456
代理机构
江苏银创律师事务所 32242
代理人
王纪营
法律状态
授权
国省代码
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共 43 条
[1]
常温多层ITO柔性基材单鼓立式连续气相沉积设备系统 [P]. 
庄志杰 ;
周钧 ;
刘战合 .
中国专利 :CN105887014A ,2016-08-24
[2]
复合卷绕ITO 柔性基材单鼓立式连续磁控溅射真空设备 [P]. 
庄志杰 ;
周钧 ;
刘战合 .
中国专利 :CN105063561A ,2015-11-18
[3]
复合卷绕ITO柔性基材单鼓立式连续磁控溅射真空设备 [P]. 
庄志杰 ;
周钧 ;
刘战合 .
中国专利 :CN204918748U ,2015-12-30
[4]
独立可整体行走立式多层ITO柔性基材自控卷绕系统 [P]. 
庄志杰 ;
周钧 ;
刘战合 .
中国专利 :CN205347568U ,2016-06-29
[5]
独立可整体行走立式多层ITO柔性基材自控卷绕系统 [P]. 
庄志杰 ;
周钧 ;
刘战合 .
中国专利 :CN105039925A ,2015-11-11
[6]
立式单鼓常温大面积透明导电薄膜的气相沉积方法 [P]. 
庄志杰 ;
周钧 ;
刘战合 .
中国专利 :CN105063568A ,2015-11-18
[7]
多层连续式电浆辅助化学气相沉积设备 [P]. 
郑锡辉 ;
陈正士 ;
坂本昇一郎 ;
蔡依廷 .
中国专利 :CN203976912U ,2014-12-03
[8]
鼓泡罐及气相沉积系统 [P]. 
龙占勇 ;
韩雪岭 ;
李洪 ;
刘定财 ;
梁展程 ;
刘群 .
中国专利 :CN223176197U ,2025-08-01
[9]
整合物理气相沉积与化学气相沉积的连续式沉积设备 [P]. 
郑锡辉 ;
陈正士 ;
坂本昇一郎 ;
陈位成 .
中国专利 :CN203999805U ,2014-12-10
[10]
连续型纳米薄膜制备用气相沉积设备 [P]. 
浦招前 .
中国专利 :CN212864967U ,2021-04-02