整合物理气相沉积与化学气相沉积的连续式沉积设备

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN201420435809.2

申请日：

2014-08-04

公开(公告)号：

CN203999805U

公开(公告)日：

2014-12-10

发明(设计)人：

郑锡辉陈正士坂本昇一郎陈位成

申请人：

申请人地址：

中国台湾新竹市东区光復路二段101号创新育成中心R203室

IPC主分类号：

C23C1456

IPC分类号：

C23C1654 C23C2800

代理机构：

北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006

代理人：

王玉双;常大军

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2014-12-10	授权	授权
2021-03-05	专利申请权、专利权的转移	专利权的转移 IPC(主分类):C23C 14/56 登记生效日:20210222 变更事项:专利权人变更前权利人:东莞市和域战士纳米科技有限公司变更后权利人:深圳和力纳米科技有限公司变更事项:地址变更前权利人:523000 广东省东莞市塘厦镇宏业北路99A16号变更后权利人:518000 广东省深圳市龙华区龙华街道清华社区龙观东路43号力劲厂2栋2层
2018-11-20	专利申请权、专利权的转移	专利权的转移 IPC(主分类):C23C 14/56 登记生效日:20181101 变更事项:专利权人变更前权利人:丰捷应用材料有限公司变更后权利人:东莞市和域战士纳米科技有限公司变更事项:地址变更前权利人:新竹市东区光復路二段101号创新育成中心R203室变更后权利人:广东省东莞市塘厦镇宏业北路99A16号

共 50 条

[1]

化学气相沉积装置、化学气相沉积方法 [P].

周鸣 .

中国专利 :CN103060772B ,2013-04-24

[2]

用于物理气相沉积的沉积环和物理气相沉积设备 [P].

陈杰锋 ;

李理 .

中国专利 :CN208667840U ,2019-03-29

[3]

化学气相沉积炉及化学气相沉积设备 [P].

朱伟杰 ;

顾志强 ;

戴建庭 ;

董宁 ;

李强 .

中国专利 :CN209522919U ,2019-10-22

[4]

化学气相沉积装置及化学气相沉积系统 [P].

杨耀辉 ;

胡文华 ;

梅治民 ;

王维维 ;

俞方旭 ;

席洪峰 ;

罗治湘 .

中国专利 :CN118086872A ,2024-05-28

[5]

化学气相沉积炉及化学气相沉积装置 [P].

杨竣焜 .

中国专利 :CN120575152A ,2025-09-02

[6]

化学气相沉积装置和化学气相沉积方法 [P].

酒井士郎 ;

高松勇吉 ;

森勇次 ;

直井弘之 ;

H·X·王 ;

石滨义康 ;

纲岛丰 .

中国专利 :CN1259450C ,2002-04-17

[7]

化学气相沉积装置及化学气相沉积方法 [P].

刘忠范 ;

亓月 ;

杨钰垚 ;

袁昊 .

中国专利 :CN118814133A ,2024-10-22

[8]

化学气相沉积装置及化学气相沉积方法 [P].

刘恒 .

中国专利 :CN102851651A ,2013-01-02

[9]

化学气相沉积装置 [P].

龙梅丽 .

中国专利 :CN216427410U ,2022-05-03

[10]

化学气相沉积装置 [P].

黄章华 .

中国专利 :CN217997315U ,2022-12-09

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