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混合晶向反型模式半导体纳米线MOSFET
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201210136029.3
申请日
:
2012-05-04
公开(公告)号
:
CN102683413A
公开(公告)日
:
2012-09-19
发明(设计)人
:
黄晓橹
葛洪涛
申请人
:
申请人地址
:
201210 上海市浦东新区张江高科技园区高斯路568号
IPC主分类号
:
H01L2978
IPC分类号
:
H01L2910
H01L21336
H01L27092
H01L218238
代理机构
:
上海新天专利代理有限公司 31213
代理人
:
王敏杰
法律状态
:
公开
国省代码
:
引用
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2012-09-19
公开
公开
2012-11-14
实质审查的生效
实质审查的生效 号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101346523682 IPC(主分类):H01L 29/78 专利申请号:2012101360293 申请日:20120504
2015-07-29
授权
授权
共 50 条
[1]
混合晶向反型模式半导体纳米线MOSFET
[P].
黄晓橹
论文数:
0
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0
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0
黄晓橹
;
戴树刚
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戴树刚
.
中国专利
:CN102683414A
,2012-09-19
[2]
双层隔离混合晶向积累型纳米线MOSFET
[P].
黄晓橹
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0
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0
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黄晓橹
;
刘格致
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刘格致
.
中国专利
:CN102683333A
,2012-09-19
[3]
双层隔离混合晶向应变纳米线MOSFET
[P].
黄晓橹
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0
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0
黄晓橹
.
中国专利
:CN102683356B
,2012-09-19
[4]
双层隔离混合晶向应变纳米线MOSFET
[P].
黄晓橹
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黄晓橹
.
中国专利
:CN102683412A
,2012-09-19
[5]
双层隔离半导体纳米线MOSFET
[P].
黄晓橹
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黄晓橹
.
中国专利
:CN102569410A
,2012-07-11
[6]
双层隔离纵向堆叠式半导体纳米线MOSFET
[P].
黄晓橹
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0
黄晓橹
.
中国专利
:CN102569409B
,2012-07-11
[7]
双层隔离三维阵列式半导体纳米线MOSFET
[P].
黄晓橹
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黄晓橹
.
中国专利
:CN102544010A
,2012-07-04
[8]
应变半导体纳米线
[P].
张慎明
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张慎明
;
I·劳尔
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I·劳尔
;
林崇勋
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林崇勋
;
J·W·斯雷特
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J·W·斯雷特
.
中国专利
:CN104733530B
,2015-06-24
[9]
半导体纳米线制造
[P].
M·B·伯格
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M·B·伯格
;
K·E·莫斯伦德
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K·E·莫斯伦德
;
H·E·里尔
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H·E·里尔
;
H·施密特
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H·施密特
.
中国专利
:CN105793956B
,2016-07-20
[10]
制造半导体纳米线及纳米线半导体装置的方法
[P].
洪瑛
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0
机构:
洪瑛
洪瑛
洪瑛
.
中国专利
:CN111902943B
,2024-07-09
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