基板处理装置以及基板处理方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201480019122.3
申请日
2014-03-25
公开(公告)号
CN105103268B
公开(公告)日
2015-11-25
发明(设计)人
林航之介 大田垣崇 长岛裕次 矶明典
申请人
申请人地址
日本神奈川县
IPC主分类号
H01L21027
IPC分类号
G02F113 G02F11333 H01L21304 H01L21306
代理机构
永新专利商标代理有限公司 72002
代理人
徐冰冰;黄剑锋
法律状态
授权
国省代码
引用
下载
收藏
共 50 条
[1]
基板处理装置以及基板处理方法 [P]. 
藤原友则 ;
柴山宣之 ;
吉田幸史 ;
柴田哲弥 ;
仲野彰义 .
中国专利 :CN104992912A ,2015-10-21
[2]
基板处理方法以及基板处理装置 [P]. 
阿部博史 ;
太田乔 ;
石津岳明 ;
小林健司 ;
村元僚 ;
根来世 ;
奥谷学 ;
酒井渉 .
日本专利 :CN113053728B ,2024-08-27
[3]
基板处理装置以及基板处理方法 [P]. 
吉富大地 ;
井上一树 ;
岩见优树 ;
石井弘晃 .
中国专利 :CN110660647A ,2020-01-07
[4]
基板处理方法以及基板处理装置 [P]. 
谷泽成规 ;
宫路信行 ;
髙冈诚 ;
泽崎尚树 ;
奥村刚 ;
三浦淳靖 .
中国专利 :CN109427548A ,2019-03-05
[5]
基板处理装置以及基板处理方法 [P]. 
藤原友则 ;
柴山宣之 ;
吉田幸史 ;
柴田哲弥 ;
仲野彰义 .
中国专利 :CN110690146A ,2020-01-14
[6]
基板处理装置以及基板处理方法 [P]. 
武明励 ;
安藤幸嗣 ;
前川直嗣 ;
石井弘晃 ;
安武阳介 .
中国专利 :CN110226216A ,2019-09-10
[7]
基板处理方法以及基板处理装置 [P]. 
阿部博史 ;
太田乔 ;
石津岳明 ;
小林健司 ;
村元僚 ;
根来世 ;
奥谷学 ;
酒井渉 .
中国专利 :CN113053728A ,2021-06-29
[8]
基板处理装置以及基板处理方法 [P]. 
吉富大地 ;
井上一树 ;
岩见优树 ;
石井弘晃 .
中国专利 :CN106024581B ,2016-10-12
[9]
基板处理方法以及基板处理装置 [P]. 
大泽瑞树 ;
戎居博志 .
日本专利 :CN111052315B ,2024-02-20
[10]
基板处理方法以及基板处理装置 [P]. 
樋口鲇美 ;
岩崎晃久 .
中国专利 :CN110214365A ,2019-09-06