等离子体处理装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN01120789.2

申请日：

2001-03-21

公开(公告)号：

CN1165969C

公开(公告)日：

2001-11-14

发明(设计)人：

钟筑律夫田寺孝光山本达志平山昌树大见忠弘

申请人：

申请人地址：

日本大阪市

IPC主分类号：

H01L21205

IPC分类号：

H01L213065

代理机构：

中国专利代理(香港)有限公司

代理人：

杨凯;叶恺东

法律状态：

专利权的终止

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2012-05-23	专利权的终止	未缴年费专利权终止号牌文件类型代码:1605 号牌文件序号:101250116605 IPC(主分类):H01L 21/205 专利号:ZL011207892 申请日:20010321 授权公告日:20040908 终止日期:20110321
2004-09-08	授权	授权
2002-10-02	实质审查的生效	实质审查的生效
2001-11-14	公开	公开

共 50 条

[1]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

田才忠 ;

野泽俊久 .

中国专利 :CN101347051B ,2009-01-14

[2]

等离子体处理装置及等离子体处理方法 [P].

冈山信幸 ;

松本直树 .

中国专利 :CN102217044A ,2011-10-12

[3]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

松浦广行 .

日本专利 :CN112786425B ,2024-09-20

[4]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

松浦广行 .

中国专利 :CN112786425A ,2021-05-11

[5]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

山本直子 ;

山本達志 ;

平山昌树 ;

大見忠弘 .

中国专利 :CN1236657C ,2003-10-22

[6]

等离子体处理装置 [P].

单静静 ;

豆海清 ;

完颜俊雄 ;

郭玉芳 ;

高毅 .

中国专利 :CN218351406U ,2023-01-20

[7]

等离子体处理装置 [P].

涂乐义 ;

叶如彬 ;

徐伟娜 .

中国专利 :CN111326391B ,2020-06-23

[8]

等离子体处理装置 [P].

川又由雄 .

中国专利 :CN110872691A ,2020-03-10

[9]

等离子体处理装置 [P].

井野英二 ;

渡边亮 ;

石原俊一 ;

芦田肇 ;

庄子博 ;

吉村桂一 .

中国专利 :CN102203909A ,2011-09-28

[10]

等离子体处理装置 [P].

李俊良 ;

余东洋 .

中国专利 :CN105448633A ,2016-03-30

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