等离子体处理装置

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201911050563.0
申请日
2019-10-31
公开(公告)号
CN111326391B
公开(公告)日
2020-06-23
发明(设计)人
涂乐义 叶如彬 徐伟娜
申请人
申请人地址
201201 上海市浦东新区金桥出口加工区(南区)泰华路188号
IPC主分类号
H01J3732
IPC分类号
代理机构
北京集佳知识产权代理有限公司 11227
代理人
张静
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
等离子体处理装置及等离子体处理方法 [P]. 
冈山信幸 ;
松本直树 .
中国专利 :CN102217044A ,2011-10-12
[2]
等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P]. 
松浦广行 .
日本专利 :CN112786425B ,2024-09-20
[3]
等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P]. 
松浦广行 .
中国专利 :CN112786425A ,2021-05-11
[4]
等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P]. 
山本直子 ;
山本達志 ;
平山昌树 ;
大見忠弘 .
中国专利 :CN1236657C ,2003-10-22
[5]
等离子体处理装置及基片处理方法 [P]. 
王智昊 ;
徐朝阳 .
中国专利 :CN118919389A ,2024-11-08
[6]
等离子体处理装置 [P]. 
佐藤亮 ;
齐藤均 .
中国专利 :CN101552188B ,2009-10-07
[7]
等离子体处理装置 [P]. 
池田太郎 ;
北原聪文 ;
川上聪 .
日本专利 :CN113871281B ,2024-10-18
[8]
等离子体处理装置 [P]. 
南建辉 ;
宋巧丽 .
中国专利 :CN101478857A ,2009-07-08
[9]
等离子体处理装置 [P]. 
钟筑律夫 ;
田寺孝光 ;
山本达志 ;
平山昌树 ;
大见忠弘 .
中国专利 :CN1165969C ,2001-11-14
[10]
等离子体处理装置 [P]. 
傅时梁 ;
黄允文 .
中国专利 :CN114078680A ,2022-02-22