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等离子体处理装置及基片处理方法
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202310512510.6
申请日：
2023-05-08
公开(公告)号：
CN118919389A
公开(公告)日：
2024-11-08
发明(设计)人：
王智昊
徐朝阳
申请人：
中微半导体设备（上海）股份有限公司
申请人地址：
201201 上海市浦东新区金桥出口加工区（南区）泰华路188号
IPC主分类号：
H01J37/32
IPC分类号：
H01L21/67
代理机构：
上海元好知识产权代理有限公司 31323
代理人：
张双红;张静洁
法律状态：
公开
国省代码：
上海市
市辖区
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2024-11-08 | 公开 | 公开 |
| 2024-11-26 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效IPC(主分类):H01J 37/32申请日:20230508 |