共 50 条
[1]
[2]
[3]
[4]
[5]
[6]
[7]
[8]
[9]
[10]
等离子体处理装置及基片处理方法
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202010586822.8
申请日：
2020-06-24
公开(公告)号：
CN113838734A
公开(公告)日：
2021-12-24
发明(设计)人：
涂乐义
叶如彬
申请人：
申请人地址：
201201 上海市浦东新区金桥出口加工区（南区）泰华路188号
IPC主分类号：
H01J3732
IPC分类号：
H01L2167
代理机构：
上海元好知识产权代理有限公司 31323
代理人：
周乃鑫;章丽娟
法律状态：
公开
国省代码：
引用
下载
收藏
法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2021-12-24 | 公开 | 公开 |
| 2022-01-11 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效 IPC(主分类):H01J 37/32 申请日:20200624 |