等离子体处理装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201310138892.7

申请日：

2013-04-19

公开(公告)号：

CN103227091B

公开(公告)日：

2013-07-31

发明(设计)人：

倪图强梁洁罗伟义

申请人：

申请人地址：

201201 上海市浦东新区金桥出口加工区(南区)泰华路188号

IPC主分类号：

H01J3732

IPC分类号：

代理机构：

上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31275

代理人：

吴世华;林彦之

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2016-01-27	授权	授权
2013-08-28	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101511728802 IPC(主分类):H01J 37/32 专利申请号:2013101388927 申请日:20130419
2020-09-01	专利权人的姓名或者名称、地址的变更	专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):H01J 37/32 变更事项:专利权人变更前:中微半导体设备（上海）有限公司变更后:中微半导体设备（上海）股份有限公司变更事项:地址变更前:201201 上海市浦东新区金桥出口加工区(南区)泰华路188号变更后:201201 上海市浦东新区金桥出口加工区(南区)泰华路188号
2013-07-31	公开	公开

共 50 条

[1]

等离子体处理装置 [P].

梁洁 ;

叶如彬 .

中国专利 :CN104217914B ,2014-12-17

[2]

等离子体处理装置及等离子体处理方法 [P].

叶如彬 ;

梁洁 ;

浦远 .

中国专利 :CN104733278A ,2015-06-24

[3]

等离子体处理装置及等离子体处理方法 [P].

周虎 ;

刘身健 ;

谢小兵 ;

严利均 .

中国专利 :CN106937472A ,2017-07-07

[4]

等离子体处理装置及等离子体处理方法 [P].

叶如彬 ;

倪图强 .

中国专利 :CN103476196A ,2013-12-25

[5]

等离子体处理装置及基片处理方法 [P].

涂乐义 ;

叶如彬 .

中国专利 :CN113838734A ,2021-12-24

[6]

等离子体处理装置 [P].

连增迪 ;

左涛涛 ;

吴狄 .

中国专利 :CN114121581A ,2022-03-01

[7]

等离子体处理装置 [P].

连增迪 ;

左涛涛 ;

吴狄 .

中国专利 :CN114121581B ,2024-04-05

[8]

电容耦合等离子体处理装置与等离子体处理方法 [P].

叶如彬 ;

涂乐义 ;

梁洁 .

中国专利 :CN108269728A ,2018-07-10

[9]

电容耦合等离子体处理装置与等离子体处理方法 [P].

叶如彬 ;

涂乐义 ;

梁洁 .

中国专利 :CN108269727A ,2018-07-10

[10]

电容耦合等离子体处理装置与等离子体处理方法 [P].

叶如彬 ;

梁洁 ;

涂乐义 ;

徐朝阳 ;

杨金全 .

中国专利 :CN107305830A ,2017-10-31

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