超大规模集成电路铝布线抛光液

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN200610014325.0
申请日
2006-06-13
公开(公告)号
CN1861726A
公开(公告)日
2006-11-15
发明(设计)人
刘玉岭 牛新环
申请人
申请人地址
300130天津市红桥区光荣道8号
IPC主分类号
C09G114
IPC分类号
H01L21768
代理机构
天津市三利专利商标代理有限公司
代理人
闫俊芬
法律状态
实质审查的生效
国省代码
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共 50 条
[1]
超大规模集成电路铝布线抛光液的制备方法 [P]. 
刘玉岭 ;
周建伟 ;
胡轶 .
中国专利 :CN102010667B ,2011-04-13
[2]
超大规模集成电路铝布线抛光后晶片表面洁净处理方法 [P]. 
刘玉岭 ;
周建伟 ;
胡轶 .
中国专利 :CN101901783A ,2010-12-01
[3]
超大规模集成电路硅衬底的化学机械抛光液制备方法 [P]. 
刘玉岭 ;
周建伟 ;
赵巧云 .
中国专利 :CN102010666B ,2011-04-13
[4]
超大规模集成电路锁 [P]. 
罗东升 .
中国专利 :CN87210846U ,1988-12-21
[5]
超大规模集成电路多层铜布线用化学机械全局平面化抛光液 [P]. 
刘玉岭 ;
王新 ;
檀柏梅 ;
张楷亮 ;
刘纳 .
中国专利 :CN1140599C ,2003-02-26
[6]
超晶格超大规模集成电路 [P]. 
林和 .
中国专利 :CN113871457A ,2021-12-31
[7]
超晶格超大规模集成电路 [P]. 
林和 .
中国专利 :CN113871459A ,2021-12-31
[8]
超晶格超大规模集成电路 [P]. 
林和 .
中国专利 :CN113871458A ,2021-12-31
[9]
超晶格超大规模集成电路 [P]. 
林和 .
中国专利 :CN113871461A ,2021-12-31
[10]
超晶格超大规模集成电路 [P]. 
林和 .
中国专利 :CN110085665B ,2019-08-02