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研磨调整装置及化学机械研磨装置
被引:0
专利类型
:
实用新型
申请号
:
CN201320260048.7
申请日
:
2013-05-14
公开(公告)号
:
CN203245722U
公开(公告)日
:
2013-10-23
发明(设计)人
:
唐强
申请人
:
申请人地址
:
100176 北京市大兴区北京经济技术开发区(亦庄)文昌大道18号
IPC主分类号
:
B24B3734
IPC分类号
:
B24B3711
B24B3700
代理机构
:
上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237
代理人
:
屈蘅;李时云
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2013-10-23
授权
授权
2020-05-01
专利权的终止
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):B24B 37/34 申请日:20130514 授权公告日:20131023 终止日期:20190514
共 50 条
[1]
研磨调整装置及化学机械研磨装置
[P].
唐强
论文数:
0
引用数:
0
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0
唐强
.
中国专利
:CN203245721U
,2013-10-23
[2]
研磨垫调整器清洗装置及化学机械研磨装置
[P].
唐强
论文数:
0
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0
唐强
;
卢勇
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卢勇
;
张溢钢
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张溢钢
;
马智勇
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0
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马智勇
.
中国专利
:CN204075988U
,2015-01-07
[3]
研磨垫调整装置
[P].
王哲
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0
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王哲
;
孙涛
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孙涛
;
张春磊
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张春磊
;
宋辉英
论文数:
0
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宋辉英
;
任洁
论文数:
0
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任洁
.
中国专利
:CN201940892U
,2011-08-24
[4]
研磨头及化学机械研磨装置
[P].
沈新林
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沈新林
;
王海宽
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王海宽
;
郭松辉
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郭松辉
;
吴龙江
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吴龙江
;
林宗贤
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林宗贤
.
中国专利
:CN208663469U
,2019-03-29
[5]
研磨装置及化学机械研磨设备
[P].
王跃林
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机构:
芯恩(青岛)集成电路有限公司
芯恩(青岛)集成电路有限公司
王跃林
;
许力介
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机构:
芯恩(青岛)集成电路有限公司
芯恩(青岛)集成电路有限公司
许力介
;
韩志祥
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机构:
芯恩(青岛)集成电路有限公司
芯恩(青岛)集成电路有限公司
韩志祥
;
赵振伟
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机构:
芯恩(青岛)集成电路有限公司
芯恩(青岛)集成电路有限公司
赵振伟
.
中国专利
:CN223383257U
,2025-09-26
[6]
研磨头及化学机械研磨装置
[P].
岳志刚
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岳志刚
;
林宗贤
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林宗贤
;
吴龙江
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吴龙江
;
辛君
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辛君
.
中国专利
:CN207326710U
,2018-05-08
[7]
研磨垫及化学机械研磨装置
[P].
谭玉荣
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0
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谭玉荣
.
中国专利
:CN206567983U
,2017-10-20
[8]
研磨垫调整器清洗装置及化学机械研磨装置
[P].
唐强
论文数:
0
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0
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0
唐强
.
中国专利
:CN202825548U
,2013-03-27
[9]
用于研磨垫调整装置的机械臂
[P].
邵群
论文数:
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0
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0
邵群
.
中国专利
:CN201483358U
,2010-05-26
[10]
化学机械研磨装置及化学机械研磨方法
[P].
邬良
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0
邬良
.
中国专利
:CN112959223A
,2021-06-15
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