一种双面真空磁控溅射卷绕镀膜装置

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN201820340474.4

申请日：

2018-03-13

公开(公告)号：

CN207958491U

公开(公告)日：

2018-10-12

发明(设计)人：

桂礼家徐地华

申请人：

申请人地址：

330000 江西省南昌市进贤县文港镇工业大道16号

IPC主分类号：

C23C1435

IPC分类号：

C23C1456

代理机构：

长沙智德知识产权代理事务所(普通合伙) 43207

代理人：

左祝安

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2018-10-12	授权	授权

共 50 条

[1]

一种双面真空磁控溅射卷绕镀膜装置 [P].

苏陟 .

中国专利 :CN206486587U ,2017-09-12

[2]

一种真空磁控溅射卷绕镀膜装置 [P].

杨柳林 .

中国专利 :CN212223093U ,2020-12-25

[3]

一种磁控溅射双面卷绕真空镀膜装置 [P].

谭勇 .

中国专利 :CN209292468U ,2019-08-23

[4]

一种真空磁控溅射卷绕镀膜装置 [P].

夏登峰 ;

苏陟 ;

郑永德 ;

杨伟民 .

中国专利 :CN101492809A ,2009-07-29

[5]

一种真空磁控溅射卷绕镀膜装置 [P].

夏登峰 ;

苏陟 ;

郑永德 ;

杨伟民 .

中国专利 :CN201358299Y ,2009-12-09

[6]

卷绕式双面磁控溅射真空镀膜设备 [P].

严佐毅 ;

刘文卿 .

中国专利 :CN208667836U ,2019-03-29

[7]

一种双面真空磁控溅射卷绕镀膜机 [P].

张永胜 ;

梁得刚 ;

张永祺 ;

王岩 ;

李坤 .

中国专利 :CN218089774U ,2022-12-20

[8]

超薄柔性基材真空双面磁控溅射镀铜卷绕镀膜设备 [P].

罗志明 ;

罗军文 ;

陸创程 ;

牛二辉 ;

李志荣 .

中国专利 :CN218321595U ,2023-01-17

[9]

一种双面磁控溅射卷绕镀膜设备 [P].

刘建波 .

中国专利 :CN115928032B ,2024-05-10

[10]

真空磁控溅射镀膜装置 [P].

金忠满 .

中国专利 :CN213142171U ,2021-05-07

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