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一种防止液体飞溅的半导体加工装置
被引:0
专利类型
:
实用新型
申请号
:
CN202022997791.3
申请日
:
2020-12-12
公开(公告)号
:
CN214371611U
公开(公告)日
:
2021-10-08
发明(设计)人
:
冯嘉荔
申请人
:
申请人地址
:
511300 广东省广州市增城区新塘镇解放路15号
IPC主分类号
:
F26B2100
IPC分类号
:
F26B2300
B08B1300
B08B502
代理机构
:
厦门仕诚联合知识产权代理事务所(普通合伙) 35227
代理人
:
蔡稷元
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2021-10-08
授权
授权
共 50 条
[1]
一种半导体元器件加工装置
[P].
赵江民
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
合肥玖福半导体技术有限公司
合肥玖福半导体技术有限公司
赵江民
.
中国专利
:CN221559181U
,2024-08-20
[2]
一种半导体加工装置
[P].
詹玉峰
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詹玉峰
;
陈跃华
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陈跃华
;
方勇华
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方勇华
;
方小明
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0
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0
方小明
.
中国专利
:CN213816106U
,2021-07-27
[3]
一种半导体加工装置
[P].
韩玟锡
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机构:
海世高半导体科技(苏州)有限公司
海世高半导体科技(苏州)有限公司
韩玟锡
;
曹龙吉
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机构:
海世高半导体科技(苏州)有限公司
海世高半导体科技(苏州)有限公司
曹龙吉
;
南商一
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机构:
海世高半导体科技(苏州)有限公司
海世高半导体科技(苏州)有限公司
南商一
;
徐伟
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机构:
海世高半导体科技(苏州)有限公司
海世高半导体科技(苏州)有限公司
徐伟
;
全文峰
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机构:
海世高半导体科技(苏州)有限公司
海世高半导体科技(苏州)有限公司
全文峰
.
中国专利
:CN121075964A
,2025-12-05
[4]
半导体晶片的加工装置
[P].
波冈伸一
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波冈伸一
;
川瀬雅之
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川瀬雅之
;
谷本亮治
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谷本亮治
.
中国专利
:CN102343444B
,2012-02-08
[5]
一种防止抛光液飞溅的半导体加工用抛光装置
[P].
李承浩
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机构:
苏州同冠微电子有限公司
苏州同冠微电子有限公司
李承浩
;
缪新海
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机构:
苏州同冠微电子有限公司
苏州同冠微电子有限公司
缪新海
;
王炜
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机构:
苏州同冠微电子有限公司
苏州同冠微电子有限公司
王炜
;
吴耀辉
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机构:
苏州同冠微电子有限公司
苏州同冠微电子有限公司
吴耀辉
;
尹锺晚
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机构:
苏州同冠微电子有限公司
苏州同冠微电子有限公司
尹锺晚
;
金恩泽
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机构:
苏州同冠微电子有限公司
苏州同冠微电子有限公司
金恩泽
.
中国专利
:CN223235979U
,2025-08-19
[6]
一种半导体处理加工装置
[P].
刘泽华
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0
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刘泽华
.
中国专利
:CN114203528A
,2022-03-18
[7]
一种半导体钎焊加工装置
[P].
王红佳
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机构:
天津市晓川过滤设备发展有限公司
天津市晓川过滤设备发展有限公司
王红佳
;
王红星
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机构:
天津市晓川过滤设备发展有限公司
天津市晓川过滤设备发展有限公司
王红星
;
王守国
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机构:
天津市晓川过滤设备发展有限公司
天津市晓川过滤设备发展有限公司
王守国
;
王天奇
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机构:
天津市晓川过滤设备发展有限公司
天津市晓川过滤设备发展有限公司
王天奇
.
中国专利
:CN220880860U
,2024-05-03
[8]
一种半导体产品钎焊加工装置
[P].
方明喜
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方明喜
;
肖学才
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肖学才
.
中国专利
:CN216656654U
,2022-06-03
[9]
一种半导体加工装置
[P].
陈圆圆
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陈圆圆
.
中国专利
:CN112338776A
,2021-02-09
[10]
一种半导体加工装置
[P].
蔡梓国
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0
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0
蔡梓国
.
中国专利
:CN113319701A
,2021-08-31
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