CVD方法和CVD反应器

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201080048228.8

申请日：

2010-08-04

公开(公告)号：

CN102597307B

公开(公告)日：

2012-07-18

发明(设计)人：

G.K.斯特劳科

申请人：

申请人地址：

德国黑措根拉特

IPC主分类号：

C23C1644

IPC分类号：

C30B2514

代理机构：

北京市柳沈律师事务所 11105

代理人：

贾静环

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2012-07-18	公开	公开
2012-09-19	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101327737022 IPC(主分类):C23C 16/44 专利申请号:2010800482288 申请日:20100804
2014-12-17	授权	授权

共 50 条

[1]

CVD反应器和清洁CVD反应器的方法 [P].

M.科尔伯格 ;

W.J.T.克鲁克肯 ;

F.鲁达伊威特 ;

M.德费尔 ;

M.普菲斯特雷尔 .

中国专利 :CN109844174B ,2019-06-04

[2]

CVD反应器和用于CVD反应器的基板支架 [P].

A.博伊德 ;

D.克莱森斯 ;

H.希尔瓦 .

中国专利 :CN104053816A ,2014-09-17

[3]

CVD反应器的清洗方法和操作方法 [P].

S·莱昂内 ;

M·毛切里 ;

G·阿邦丹扎 ;

D·克里帕 ;

G·瓦伦特 ;

M·马西 ;

F·普雷蒂 .

中国专利 :CN101023198A ,2007-08-22

[4]

CVD反应器的基座 [P].

W.J.T.克鲁肯 ;

P.S.劳弗 .

德国专利 :CN113383110B ,2024-05-14

[5]

CVD反应器的基座 [P].

W.J.T.克鲁肯 ;

P.S.劳弗 .

中国专利 :CN113383110A ,2021-09-10

[6]

一种用于CVD反应器的喷嘴装置及CVD反应器 [P].

于伟华 ;

朱建中 ;

鞠德胜 ;

万荣群 .

中国专利 :CN215757598U ,2022-02-08

[7]

用于设置CVD反应器的方法 [P].

P·S·劳弗 ;

H·拉赫里布 ;

I·米科利 .

德国专利 :CN120265827A ,2025-07-04

[8]

用于沉积层的CVD反应器和方法 [P].

G.K.斯特劳克 ;

M.道尔斯伯格 .

中国专利 :CN102482774A ,2012-05-30

[9]

用于CVD反应器的基座 [P].

D.克莱森斯 ;

A.博伊德 ;

J.奥多德 ;

O.费龙 .

中国专利 :CN109890998B ,2019-06-14

[10]

一种CVD反应器 [P].

钳伟 ;

蔡春立 ;

于曙光 ;

冉占山 .

中国专利 :CN103964443A ,2014-08-06

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