一种用于CVD反应器的喷嘴装置及CVD反应器

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN202120890855.1

申请日：

2021-04-25

公开(公告)号：

CN215757598U

公开(公告)日：

2022-02-08

发明(设计)人：

于伟华朱建中鞠德胜万荣群

申请人：

申请人地址：

214000 江苏省无锡市宜兴经济技术开发区杏里路10号宜兴光电产业园1幢201室

IPC主分类号：

C23C16455

IPC分类号：

代理机构：

深圳市精英专利事务所 44242

代理人：

李莹

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-02-08	授权	授权
2022-06-14	专利权人的姓名或者名称、地址的变更	专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):C23C 16/455 变更事项:专利权人变更前:宜兴市海飞陵电子科技有限公司变更后:无锡海飞凌半导体材料有限公司变更事项:地址变更前:214000 江苏省无锡市宜兴经济技术开发区杏里路10号宜兴光电产业园1幢201室变更后:214200 江苏省无锡市宜兴经济技术开发区永盛路

共 50 条

[1]

CVD反应器和清洁CVD反应器的方法 [P].

M.科尔伯格 ;

W.J.T.克鲁克肯 ;

F.鲁达伊威特 ;

M.德费尔 ;

M.普菲斯特雷尔 .

中国专利 :CN109844174B ,2019-06-04

[2]

一种带有喷嘴的CVD反应器 [P].

赖学明 .

中国专利 :CN218232569U ,2023-01-06

[3]

CVD反应器和用于CVD反应器的基板支架 [P].

A.博伊德 ;

D.克莱森斯 ;

H.希尔瓦 .

中国专利 :CN104053816A ,2014-09-17

[4]

一种CVD反应器 [P].

钳伟 ;

蔡春立 ;

于曙光 ;

冉占山 .

中国专利 :CN103964443A ,2014-08-06

[5]

CVD方法和CVD反应器 [P].

G.K.斯特劳科 .

中国专利 :CN102597307B ,2012-07-18

[6]

用于CVD反应器的基座 [P].

D.克莱森斯 ;

A.博伊德 ;

J.奥多德 ;

O.费龙 .

中国专利 :CN109890998B ,2019-06-14

[7]

用于CVD反应器的基座 [P].

O.舍恩 ;

F.鲁达威特 ;

M.沙夫拉特 .

中国专利 :CN110603344A ,2019-12-20

[8]

用于CVD反应器的基座 [P].

W.J.T.克鲁肯 .

德国专利 :CN115298351B ,2025-07-22

[9]

CVD反应器的基座 [P].

W.J.T.克鲁肯 ;

P.S.劳弗 .

德国专利 :CN113383110B ,2024-05-14

[10]

CVD反应器的基座 [P].

W.J.T.克鲁肯 ;

P.S.劳弗 .

中国专利 :CN113383110A ,2021-09-10

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