溅射用氧化物烧结体靶及其制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200980115641.9

申请日：

2009-06-05

公开(公告)号：

CN102016112B

公开(公告)日：

2011-04-13

发明(设计)人：

长田幸三大塚洋明

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

C23C1434

IPC分类号：

C04B3500 C04B35453

代理机构：

中原信达知识产权代理有限责任公司 11219

代理人：

王海川;穆德骏

法律状态：

专利权人的姓名或者名称、地址的变更

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-05-04	专利权人的姓名或者名称、地址的变更	专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):C23C 14/34 变更事项:专利权人变更前:捷客斯金属株式会社变更后:捷客斯金属株式会社变更事项:地址变更前:日本东京都变更后:日本东京
2011-04-13	公开	公开
2011-06-01	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101074692603 IPC(主分类):C23C 14/34 专利申请号:2009801156419 申请日:20090605
2012-08-08	授权	授权
2017-04-26	专利权人的姓名或者名称、地址的变更	专利权人的姓名或者名称、地址的变更号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101750578825 IPC(主分类):C23C 14/34 专利号:ZL2009801156419 变更事项:专利权人变更前:JX日矿日石金属株式会社变更后:捷客斯金属株式会社变更事项:地址变更前:日本东京都变更后:日本东京都

共 50 条

[1]

氧化物烧结体以及溅射用靶 [P].

中山德行 ;

西村英一郎 ;

松村文彦 .

中国专利 :CN108698933A ,2018-10-23

[2]

氧化物烧结体溅射靶及其制造方法 [P].

高桥一寿 ;

日高浩二 ;

川越裕 ;

武末健太郎 ;

和田优 ;

上野充 ;

清田淳也 ;

小林大士 ;

武井应树 .

中国专利 :CN108350564A ,2018-07-31

[3]

氧化物烧结体和溅射靶、及其制造方法 [P].

田尾幸树 ;

中根靖夫 ;

畠英雄 .

中国专利 :CN109071361B ,2018-12-21

[4]

复合氧化物烧结体、复合氧化物烧结体的制造方法、溅射靶及薄膜的制造方法 [P].

仓持豪人 ;

尾身健治 ;

市田正典 ;

饭草仁志 .

中国专利 :CN102089257B ,2011-06-08

[5]

复合氧化物烧结体及其制造方法、溅射靶材、以及氧化物透明导电膜及其制造方法 [P].

仓持豪人 ;

饭草仁志 ;

涩田见哲夫 .

中国专利 :CN103140454A ,2013-06-05

[6]

氧化物膜及其制造方法、与靶及氧化物烧结体的制造方法 [P].

山添诚司 ;

和田隆博 .

中国专利 :CN102741448B ,2012-10-17

[7]

氧化物烧结体和溅射靶 [P].

白仁田亮 .

中国专利 :CN112262114B ,2021-01-22

[8]

氧化物烧结体及其制造方法以及溅射靶材 [P].

深川功児 .

日本专利 :CN117529574A ,2024-02-06

[9]

氧化物烧结体和溅射靶、以及其制造方法 [P].

田尾幸树 ;

广濑研太 ;

慈幸范洋 ;

越智元隆 .

中国专利 :CN105246855A ,2016-01-13

[10]

氧化物烧结体及溅射靶、以及其制造方法 [P].

武富雄一 ;

田尾幸树 ;

金丸守贺 ;

坂井健二 ;

长谷山秀悦 ;

菊山英志 .

中国专利 :CN104204283A ,2014-12-10

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