超结半导体器件及制造方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201410370295.1
申请日
2014-07-30
公开(公告)号
CN104347351A
公开(公告)日
2015-02-11
发明(设计)人
H·韦伯
申请人
申请人地址
奥地利菲拉赫
IPC主分类号
H01L2102
IPC分类号
H01L2906 H01L2978 H01L29739
代理机构
北京市金杜律师事务所 11256
代理人
王茂华
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
超结半导体器件及其制造方法 [P]. 
童亮 .
中国专利 :CN105489498A ,2016-04-13
[2]
制造超结半导体器件的方法 [P]. 
岛藤贵行 .
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[3]
超结功率半导体器件和用于制造超结功率半导体器件的方法 [P]. 
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[4]
制造超结半导体器件和半导体器件 [P]. 
A·威尔梅洛斯 ;
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H-J·舒尔策 ;
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[5]
超结半导体器件 [P]. 
李宝杰 ;
任文珍 ;
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中国专利 :CN119364831B ,2025-05-16
[6]
超结半导体器件 [P]. 
李宝杰 ;
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中国专利 :CN119364831A ,2025-01-24
[7]
超结半导体器件 [P]. 
李宝杰 ;
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陆珏 ;
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[8]
超结半导体器件及其制造方法 [P]. 
高津爱 ;
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[9]
超结半导体器件及其制造方法 [P]. 
张耀权 ;
韩廷瑜 ;
梁路 .
中国专利 :CN117894820A ,2024-04-16
[10]
制造超结半导体器件的方法 [P]. 
大井明彦 .
中国专利 :CN102280383A ,2011-12-14