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半导体掩膜版
被引:0
专利类型
:
实用新型
申请号
:
CN202120456078.X
申请日
:
2021-03-02
公开(公告)号
:
CN214542131U
公开(公告)日
:
2021-10-29
发明(设计)人
:
豆海清
陈韦斌
刘立芃
申请人
:
申请人地址
:
430074 湖北省武汉市东湖新技术开发区未来三路88号
IPC主分类号
:
H01L2128
IPC分类号
:
代理机构
:
北京派特恩知识产权代理有限公司 11270
代理人
:
刘鹤;张颖玲
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2021-10-29
授权
授权
共 50 条
[1]
掩膜版及半导体结构
[P].
金普楠
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
中芯北方集成电路制造(北京)有限公司
中芯北方集成电路制造(北京)有限公司
金普楠
.
中国专利
:CN119247687A
,2025-01-03
[2]
掩膜版、掩膜版缺陷修复方法、掩膜版的使用方法以及半导体结构
[P].
秦学飞
论文数:
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机构:
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
秦学飞
;
王杰
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机构:
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
王杰
;
薛粉
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机构:
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
薛粉
;
凌文君
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机构:
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
凌文君
;
李德建
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机构:
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
李德建
.
中国专利
:CN112394614B
,2024-12-17
[3]
掩膜版、掩膜版缺陷修复方法、掩膜版的使用方法以及半导体结构
[P].
秦学飞
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秦学飞
;
王杰
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王杰
;
薛粉
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薛粉
;
凌文君
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凌文君
;
李德建
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李德建
.
中国专利
:CN112394614A
,2021-02-23
[4]
掩膜版版图及半导体结构
[P].
蔡哲炜
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机构:
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
蔡哲炜
;
周军
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机构:
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
周军
;
邢滨
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机构:
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
邢滨
;
余啸
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机构:
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
余啸
.
中国专利
:CN118534721A
,2024-08-23
[5]
半导体结构及掩膜版版图
[P].
苏柏青
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机构:
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
苏柏青
;
姚柳
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中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
姚柳
;
林保均
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机构:
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
林保均
;
刘新鑫
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中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
刘新鑫
;
李若园
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机构:
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
李若园
.
中国专利
:CN119517899B
,2025-09-30
[6]
半导体结构及掩膜版版图
[P].
金吉松
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机构:
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
金吉松
.
中国专利
:CN118016650A
,2024-05-10
[7]
半导体结构及掩膜版版图
[P].
江慧
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机构:
中芯国际集成电路制造(北京)有限公司
中芯国际集成电路制造(北京)有限公司
江慧
;
王志高
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机构:
中芯国际集成电路制造(北京)有限公司
中芯国际集成电路制造(北京)有限公司
王志高
.
中国专利
:CN118742197A
,2024-10-01
[8]
半导体结构及掩膜版版图
[P].
吴轶超
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机构:
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
吴轶超
;
金吉松
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机构:
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
金吉松
.
中国专利
:CN118412333A
,2024-07-30
[9]
半导体结构及掩膜版版图
[P].
吴轶超
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机构:
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
吴轶超
.
中国专利
:CN117410268A
,2024-01-16
[10]
掩膜版版图和半导体结构
[P].
杨青
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杨青
.
中国专利
:CN113589638A
,2021-11-02
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