一种等离子喷涂装置的控制电路和等离子喷涂装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201410427782.7

申请日：

2014-08-27

公开(公告)号：

CN104238407B

公开(公告)日：

2014-12-24

发明(设计)人：

门光辉吕继明崔学刚李泽辉周落彬

申请人：

申请人地址：

528000 广东省佛山市南海区狮山镇南海软件科技园(研发楼A栋)A401-1室

IPC主分类号：

G05B19042

IPC分类号：

代理机构：

北京品源专利代理有限公司 11332

代理人：

胡彬;路凯

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2017-04-19	授权	授权
2015-01-14	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101595662582 IPC(主分类):G05B 19/042 专利申请号:2014104277827 申请日:20140827
2014-12-24	公开	公开
2017-06-09	专利权人的姓名或者名称、地址的变更	专利权人的姓名或者名称、地址的变更号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101753025908 IPC(主分类):G05B 19/042 专利号:ZL2014104277827 变更事项:专利权人变更前:佛山市韦达尔自动化设备有限公司变更后:广东韦达尔科技有限公司变更事项:地址变更前:528000 广东省佛山市南海区狮山镇南海软件科技园(研发楼A栋)A401-1室变更后:528225 广东省佛山市南海区狮山镇南海软件科技园内佛高科技智库中心A座科研楼A211室

共 50 条

[1]

一种等离子喷涂装置的控制电路和等离子喷涂装置 [P].

门光辉 ;

吕继明 ;

崔学刚 ;

李泽辉 ;

周落彬 .

中国专利 :CN204009475U ,2014-12-10

[2]

等离子喷涂装置 [P].

北村智昭 ;

田中诚 ;

石丸秀雄 ;

崎山智司 .

中国专利 :CN105209175A ,2015-12-30

[3]

等离子喷涂装置 [P].

宋国利 ;

梁红 .

中国专利 :CN107447181B ,2017-12-08

[4]

等离子喷涂装置 [P].

D·布兰肯什普 ;

P·H·扎乔夫斯基 ;

G·C·舒伯特 .

中国专利 :CN1775994A ,2006-05-24

[5]

等离子喷涂装置及等离子喷涂沉积系统 [P].

何箐 ;

王锦江 ;

葛超 ;

崔亮 ;

杨明超 .

中国专利 :CN218404367U ,2023-01-31

[6]

等离子喷涂装置及等离子喷涂沉积系统 [P].

何箐 ;

王锦江 ;

葛超 ;

崔亮 ;

杨明超 .

中国专利 :CN115652246A ,2023-01-31

[7]

等离子喷涂装置及等离子喷涂沉积系统 [P].

何箐 ;

王锦江 ;

葛超 ;

崔亮 ;

杨明超 .

中国专利 :CN115652246B ,2025-09-16

[8]

一种等离子喷涂装置 [P].

秦小梅 .

中国专利 :CN109023217A ,2018-12-18

[9]

一种等离子喷涂装置 [P].

刘自然 ;

刘慧丹 ;

彭霞霖 ;

陈元 ;

钟日新 ;

缪朴 .

中国专利 :CN213507159U ,2021-06-22

[10]

一种等离子喷涂装置 [P].

张树彬 ;

吴应聪 ;

张轩玮 ;

吴建芝 ;

陆书祥 .

中国专利 :CN121183272A ,2025-12-23

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