等离子喷涂装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200510131534.9

申请日：

2005-11-04

公开(公告)号：

CN1775994A

公开(公告)日：

2006-05-24

发明(设计)人：

D·布兰肯什普 P·H·扎乔夫斯基 G·C·舒伯特

申请人：

申请人地址：

美国康涅狄格州

IPC主分类号：

C23C400

IPC分类号：

C23C2400

代理机构：

中国专利代理(香港)有限公司

代理人：

杨松龄

法律状态：

发明专利申请公布后的视为撤回

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2009-06-17	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回
2006-05-24	公开	公开
2006-10-04	实质审查的生效	实质审查的生效

共 50 条

[1]

等离子喷涂装置 [P].

宋国利 ;

梁红 .

中国专利 :CN107447181B ,2017-12-08

[2]

等离子喷涂装置 [P].

北村智昭 ;

田中诚 ;

石丸秀雄 ;

崎山智司 .

中国专利 :CN105209175A ,2015-12-30

[3]

等离子喷涂装置及等离子喷涂沉积系统 [P].

何箐 ;

王锦江 ;

葛超 ;

崔亮 ;

杨明超 .

中国专利 :CN218404367U ,2023-01-31

[4]

等离子喷涂装置及等离子喷涂沉积系统 [P].

何箐 ;

王锦江 ;

葛超 ;

崔亮 ;

杨明超 .

中国专利 :CN115652246A ,2023-01-31

[5]

等离子喷涂装置及等离子喷涂沉积系统 [P].

何箐 ;

王锦江 ;

葛超 ;

崔亮 ;

杨明超 .

中国专利 :CN115652246B ,2025-09-16

[6]

一种等离子喷涂装置 [P].

张树彬 ;

吴应聪 ;

张轩玮 ;

吴建芝 ;

陆书祥 .

中国专利 :CN121183272A ,2025-12-23

[7]

一种等离子喷涂装置 [P].

金敦 .

中国专利 :CN206721348U ,2017-12-08

[8]

等离子层喷涂装置 [P].

姜雪崑 ;

杨建 .

中国专利 :CN208649447U ,2019-03-26

[9]

一种等离子喷涂装置的控制电路和等离子喷涂装置 [P].

门光辉 ;

吕继明 ;

崔学刚 ;

李泽辉 ;

周落彬 .

中国专利 :CN104238407B ,2014-12-24

[10]

一种等离子喷涂装置的控制电路和等离子喷涂装置 [P].

门光辉 ;

吕继明 ;

崔学刚 ;

李泽辉 ;

周落彬 .

中国专利 :CN204009475U ,2014-12-10

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