等离子层喷涂装置

被引:0
专利类型
实用新型
申请号
CN201821073888.1
申请日
2018-07-06
公开(公告)号
CN208649447U
公开(公告)日
2019-03-26
发明(设计)人
姜雪崑 杨建
申请人
申请人地址
100176 北京市大兴区北京经济技术开发区荣昌东街7号院6号楼3001室
IPC主分类号
C23C4134
IPC分类号
B08B504
代理机构
北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138
代理人
邢惠童
法律状态
授权
国省代码
引用
下载
收藏
共 50 条
[1]
等离子层喷涂装置及其应用 [P]. 
姜雪崑 ;
杨建 .
中国专利 :CN108624838A ,2018-10-09
[2]
等离子喷涂装置 [P]. 
北村智昭 ;
田中诚 ;
石丸秀雄 ;
崎山智司 .
中国专利 :CN105209175A ,2015-12-30
[3]
等离子喷涂装置 [P]. 
宋国利 ;
梁红 .
中国专利 :CN107447181B ,2017-12-08
[4]
等离子喷涂装置 [P]. 
D·布兰肯什普 ;
P·H·扎乔夫斯基 ;
G·C·舒伯特 .
中国专利 :CN1775994A ,2006-05-24
[5]
等离子喷涂装置及等离子喷涂沉积系统 [P]. 
何箐 ;
王锦江 ;
葛超 ;
崔亮 ;
杨明超 .
中国专利 :CN218404367U ,2023-01-31
[6]
等离子喷涂装置及等离子喷涂沉积系统 [P]. 
何箐 ;
王锦江 ;
葛超 ;
崔亮 ;
杨明超 .
中国专利 :CN115652246A ,2023-01-31
[7]
等离子喷涂装置及等离子喷涂沉积系统 [P]. 
何箐 ;
王锦江 ;
葛超 ;
崔亮 ;
杨明超 .
中国专利 :CN115652246B ,2025-09-16
[8]
一种等离子喷涂装置 [P]. 
刘自然 ;
刘慧丹 ;
彭霞霖 ;
陈元 ;
钟日新 ;
缪朴 .
中国专利 :CN213507159U ,2021-06-22
[9]
一种等离子喷涂装置 [P]. 
张树彬 ;
吴应聪 ;
张轩玮 ;
吴建芝 ;
陆书祥 .
中国专利 :CN121183272A ,2025-12-23
[10]
一种等离子喷涂装置 [P]. 
金敦 .
中国专利 :CN206721348U ,2017-12-08