一种等离子喷涂装置

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN201720615600.8

申请日：

2017-05-27

公开(公告)号：

CN206721348U

公开(公告)日：

2017-12-08

发明(设计)人：

金敦

申请人：

申请人地址：

321000 浙江省金华市永康市五湖路1号国际会展中心办公室6638室

IPC主分类号：

C23C4134

IPC分类号：

代理机构：

杭州云睿专利代理事务所(普通合伙) 33254

代理人：

张骁敏

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2017-12-08	授权	授权
2021-05-07	专利权的终止	未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C23C 4/134 申请日:20170527 授权公告日:20171208 终止日期:20200527

共 50 条

[1]

一种等离子喷涂装置 [P].

刘自然 ;

刘慧丹 ;

彭霞霖 ;

陈元 ;

钟日新 ;

缪朴 .

中国专利 :CN213507159U ,2021-06-22

[2]

等离子喷涂装置 [P].

宋国利 ;

梁红 .

中国专利 :CN107447181B ,2017-12-08

[3]

等离子喷涂装置 [P].

D·布兰肯什普 ;

P·H·扎乔夫斯基 ;

G·C·舒伯特 .

中国专利 :CN1775994A ,2006-05-24

[4]

一种等离子喷涂装置 [P].

陈仕超 ;

杨佐东 ;

文海波 ;

程润心 ;

孙锐 .

中国专利 :CN114318205A ,2022-04-12

[5]

一种辊面等离子喷涂装置 [P].

肖志兵 .

中国专利 :CN222574747U ,2025-03-07

[6]

一种粉末等离子喷涂装置 [P].

张朝勇 .

中国专利 :CN211227295U ,2020-08-11

[7]

等离子喷涂装置及等离子喷涂沉积系统 [P].

何箐 ;

王锦江 ;

葛超 ;

崔亮 ;

杨明超 .

中国专利 :CN218404367U ,2023-01-31

[8]

等离子喷涂装置及等离子喷涂沉积系统 [P].

何箐 ;

王锦江 ;

葛超 ;

崔亮 ;

杨明超 .

中国专利 :CN115652246A ,2023-01-31

[9]

等离子喷涂装置及等离子喷涂沉积系统 [P].

何箐 ;

王锦江 ;

葛超 ;

崔亮 ;

杨明超 .

中国专利 :CN115652246B ,2025-09-16

[10]

等离子喷涂装置 [P].

北村智昭 ;

田中诚 ;

石丸秀雄 ;

崎山智司 .

中国专利 :CN105209175A ,2015-12-30

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