等离子喷涂装置及等离子喷涂沉积系统

被引：0

申请号：

CN202211283222.X

申请日：

2022-10-19

公开(公告)号：

CN115652246A

公开(公告)日：

2023-01-31

发明(设计)人：

何箐王锦江葛超崔亮杨明超

申请人：

申请人地址：

101113 北京市通州区张家湾镇广源西街11号

IPC主分类号：

C23C4134

IPC分类号：

代理机构：

北京荟英捷创知识产权代理事务所(普通合伙) 11726

代理人：

王献茹

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2023-01-31	公开	公开
2023-02-17	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 4/134 申请日:20221019

共 50 条

[1]

等离子喷涂装置及等离子喷涂沉积系统 [P].

何箐 ;

王锦江 ;

葛超 ;

崔亮 ;

杨明超 .

中国专利 :CN218404367U ,2023-01-31

[2]

等离子喷涂装置及等离子喷涂沉积系统 [P].

何箐 ;

王锦江 ;

葛超 ;

崔亮 ;

杨明超 .

中国专利 :CN115652246B ,2025-09-16

[3]

等离子喷涂装置 [P].

北村智昭 ;

田中诚 ;

石丸秀雄 ;

崎山智司 .

中国专利 :CN105209175A ,2015-12-30

[4]

等离子喷涂装置 [P].

宋国利 ;

梁红 .

中国专利 :CN107447181B ,2017-12-08

[5]

等离子喷涂装置 [P].

D·布兰肯什普 ;

P·H·扎乔夫斯基 ;

G·C·舒伯特 .

中国专利 :CN1775994A ,2006-05-24

[6]

等离子层喷涂装置 [P].

姜雪崑 ;

杨建 .

中国专利 :CN208649447U ,2019-03-26

[7]

一种等离子喷涂装置 [P].

刘自然 ;

刘慧丹 ;

彭霞霖 ;

陈元 ;

钟日新 ;

缪朴 .

中国专利 :CN213507159U ,2021-06-22

[8]

一种等离子喷涂装置 [P].

金敦 .

中国专利 :CN206721348U ,2017-12-08

[9]

一种等离子喷涂装置 [P].

陈仕超 ;

杨佐东 ;

文海波 ;

程润心 ;

孙锐 .

中国专利 :CN114318205A ,2022-04-12

[10]

辅助加热装置、等离子喷涂装置及喷涂方法 [P].

毛杰 ;

刘敏 ;

邓畅光 ;

邓春明 ;

宋进兵 ;

杨焜 ;

邓子谦 ;

张小锋 ;

牛少鹏 ;

戴红亮 .

中国专利 :CN111876721B ,2020-11-03

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