改善AMR MEMS器件侧壁表面粗糙度的方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201510579387.5

申请日：

2015-09-12

公开(公告)号：

CN105060240A

公开(公告)日：

2015-11-18

发明(设计)人：

赵波

申请人：

申请人地址：

201203 上海市浦东新区张江高科技园区祖冲之路1399号

IPC主分类号：

B81C100

IPC分类号：

代理机构：

上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237

代理人：

屈蘅

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2015-12-16	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101637742110 IPC(主分类):B81C 1/00 专利申请号:2015105793875 申请日:20150912
2015-11-18	公开	公开
2017-12-08	发明专利申请公布后的驳回	发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):B81C 1/00 申请公布日:20151118

共 50 条

[1]

改善沟槽侧壁粗糙度的方法 [P].

请求不公布姓名 .

中国专利 :CN119581323A ,2025-03-07

[2]

改善硅片表面粗糙度的工艺方法 [P].

蔡来强 .

中国专利 :CN120048724A ,2025-05-27

[3]

改善钢管表面粗糙度的方法 [P].

曹献龙 ;

王焕新 ;

王世杰 .

中国专利 :CN111500963A ,2020-08-07

[4]

改善浅沟槽隔离侧壁粗糙度的方法 [P].

张振兴 ;

奚裴 .

中国专利 :CN102148184A ,2011-08-10

[5]

改善晶片的表面粗糙度的工艺 [P].

E·内雷 ;

E·阿雷纳 ;

L·埃卡尔诺 .

中国专利 :CN1879204B ,2006-12-13

[6]

改善光刻胶表面粗糙度的方法 [P].

成智国 ;

耿文练 .

中国专利 :CN109062010A ,2018-12-21

[7]

改善铸件表面粗糙度的方法及系统 [P].

李旭 ;

王俊 .

中国专利 :CN112276800A ,2021-01-29

[8]

降低膜表面粗糙度的方法及器件 [P].

金志勋 .

中国专利 :CN118553602A ,2024-08-27

[9]

降低表面粗糙度的方法 [P].

E·布雷 ;

L·埃尔卡诺 .

中国专利 :CN1524289A ,2004-08-25

[10]

改善多晶硅侧壁粗糙度的制备方法 [P].

李士颜 ;

刘昊 ;

何志强 .

中国专利 :CN108231537A ,2018-06-29

← 1 2 3 4 5 →