改善沟槽侧壁粗糙度的方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202311150464.6

申请日：

2023-09-07

公开(公告)号：

CN119581323A

公开(公告)日：

2025-03-07

发明(设计)人：

请求不公布姓名

申请人：

青岛澳柯玛云联信息技术有限公司

申请人地址：

266000 山东省青岛市黄岛区太行山路2号

IPC主分类号：

H01L21/3065

IPC分类号：

代理机构：

上海思捷知识产权代理有限公司 31295

代理人：

沈宗晶

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-03-25	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):H01L 21/3065申请日:20230907
2025-03-07	公开	公开

共 50 条

[1]

改善浅沟槽隔离侧壁粗糙度的方法 [P].

张振兴 ;

奚裴 .

中国专利 :CN102148184A ,2011-08-10

[2]

改善多晶硅侧壁粗糙度的制备方法 [P].

李士颜 ;

刘昊 ;

何志强 .

中国专利 :CN108231537A ,2018-06-29

[3]

改善AMR MEMS器件侧壁表面粗糙度的方法 [P].

赵波 .

中国专利 :CN105060240A ,2015-11-18

[4]

一种改善深硅刻蚀侧壁粗糙度的方法 [P].

许开东 .

中国专利 :CN107611027A ,2018-01-19

[5]

改善钢管表面粗糙度的方法 [P].

曹献龙 ;

王焕新 ;

王世杰 .

中国专利 :CN111500963A ,2020-08-07

[6]

空气主轴的粗糙度改善方法 [P].

邓三军 .

中国专利 :CN118360565A ,2024-07-19

[7]

改善晶片的表面粗糙度的工艺 [P].

E·内雷 ;

E·阿雷纳 ;

L·埃卡尔诺 .

中国专利 :CN1879204B ,2006-12-13

[8]

改善光刻胶表面粗糙度的方法 [P].

成智国 ;

耿文练 .

中国专利 :CN109062010A ,2018-12-21

[9]

玻璃通孔侧壁粗糙度的优化方法 [P].

张继华 ;

蔡星周 ;

李勇 ;

李山 ;

刘金旭 ;

方针 ;

傅觉锋 ;

张柏川 ;

陈宏伟 .

中国专利 :CN119581331A ,2025-03-07

[10]

用于TSV刻蚀中改善硅通孔侧壁粗糙度的方法 [P].

王兆祥 ;

严利均 ;

黄智林 ;

邱达燕 .

中国专利 :CN103839870B ,2014-06-04

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