玻璃通孔侧壁粗糙度的优化方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202411687254.5

申请日：

2024-11-25

公开(公告)号：

CN119581331A

公开(公告)日：

2025-03-07

发明(设计)人：

张继华蔡星周李勇李山刘金旭方针傅觉锋张柏川陈宏伟

申请人：

成都迈科科技有限公司

申请人地址：

611731 四川省成都市高新区西芯大道4号创新中心D136号

IPC主分类号：

H01L21/48

IPC分类号：

C03C15/00

代理机构：

成都方圆聿联专利代理事务所(普通合伙) 51241

代理人：

李鹏

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

江苏省常州市

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-03-25	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):H01L 21/48申请日:20241125
2025-03-07	公开	公开

共 50 条

[1]

用于TSV刻蚀中改善硅通孔侧壁粗糙度的方法 [P].

王兆祥 ;

严利均 ;

黄智林 ;

邱达燕 .

中国专利 :CN103839870B ,2014-06-04

[2]

一种玻璃盲槽侧壁粗糙度的优化加工方法 [P].

方小春 .

中国专利 :CN121159147A ,2025-12-19

[3]

改善沟槽侧壁粗糙度的方法 [P].

请求不公布姓名 .

中国专利 :CN119581323A ,2025-03-07

[4]

改善浅沟槽隔离侧壁粗糙度的方法 [P].

张振兴 ;

奚裴 .

中国专利 :CN102148184A ,2011-08-10

[5]

改善多晶硅侧壁粗糙度的制备方法 [P].

李士颜 ;

刘昊 ;

何志强 .

中国专利 :CN108231537A ,2018-06-29

[6]

粗糙度优化方法及装置 [P].

林岳明 .

中国专利 :CN119596633A ,2025-03-11

[7]

一种刻蚀沟槽及通孔线边缘粗糙度优化方法 [P].

陈敏腾 ;

杨秀静 .

中国专利 :CN120164791A ,2025-06-17

[8]

开口的侧壁上的粗糙度的减小 [P].

C·J·甘比 ;

D·D·施里拉姆 ;

I·V·瓦西里耶沃 .

中国专利 :CN111489967A ,2020-08-04

[9]

具有通孔的低表面粗糙度基材及其制造方法 [P].

金宇辉 .

中国专利 :CN109689584A ,2019-04-26

[10]

一种改善深硅刻蚀侧壁粗糙度的方法 [P].

许开东 .

中国专利 :CN107611027A ,2018-01-19

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