光学涂覆方法、设备和产品

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201711027219.0

申请日：

2012-11-30

公开(公告)号：

CN107777894B

公开(公告)日：

2018-03-09

发明(设计)人：

C·M·李卢小锋 M·X·欧阳张军红

申请人：

申请人地址：

美国纽约州

IPC主分类号：

C03C1700

IPC分类号：

C03C1742 C23C1404 C23C1412 C23C1424 C23C1450 C23C1456

代理机构：

上海专利商标事务所有限公司 31100

代理人：

沙永生

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-05-11	授权	授权
2018-03-09	公开	公开
2018-04-03	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):C03C 17/00 申请日:20121130

共 50 条

[1]

光学涂覆方法、设备和产品 [P].

C·M·李 ;

卢小锋 ;

M·X·欧阳 ;

张军红 .

中国专利 :CN105143500B ,2015-12-09

[2]

光学涂覆方法、设备和产品 [P].

C·M·李 ;

卢小锋 ;

M·X·欧阳 ;

张军红 .

中国专利 :CN104302589B ,2015-01-21

[3]

涂覆特殊光学涂层的方法 [P].

F·布雷姆 .

中国专利 :CN1793420B ,2006-06-28

[4]

涂覆设备 [P].

I·R·威廉姆斯 ;

D·雷兹贝克 ;

D·M·尼尔森 ;

K·D·桑德森 .

中国专利 :CN108026641A ,2018-05-11

[5]

真空沉积设备和用于涂覆基底的方法 [P].

埃里奇·西尔伯贝格 ;

布鲁诺·施米茨 ;

塞尔焦·帕切 ;

雷米·邦内曼 ;

迪迪埃·马尔内夫 .

:CN111479949B ,2025-10-17

[6]

真空沉积设备和用于涂覆基底的方法 [P].

埃里奇·西尔伯贝格 ;

布鲁诺·施米茨 ;

塞尔焦·帕切 ;

雷米·邦内曼 ;

迪迪埃·马尔内夫 .

中国专利 :CN111479949A ,2020-07-31

[7]

用于涂覆基底的真空沉积设备和方法 [P].

埃里奇·西尔伯贝格 ;

蒂亚戈·拉贝洛努内斯坎波斯 ;

奈格尔·吉拉尼 .

中国专利 :CN112272714B ,2021-01-26

[8]

用于涂覆基底的真空沉积设备和方法 [P].

埃里奇·西尔伯贝格 ;

塞尔焦·帕切 ;

雷米·邦内曼 .

中国专利 :CN112272713A ,2021-01-26

[9]

真空沉积设备和用于涂覆基底的方法 [P].

埃里奇·西尔伯贝格 ;

布鲁诺·施米茨 ;

塞尔焦·帕切 ;

雷米·邦内曼 ;

迪迪埃·马尔内夫 .

中国专利 :CN111479950A ,2020-07-31

[10]

真空沉积设备和用于涂覆基底的方法 [P].

埃里奇·西尔伯贝格 ;

塞尔焦·帕切 ;

雷米·邦内曼 .

中国专利 :CN112262226A ,2021-01-22

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