微波等离子体化学气相沉积法生长单晶金刚石用的沉积台

被引:0
专利类型
实用新型
申请号
CN201720707933.3
申请日
2017-06-16
公开(公告)号
CN206828679U
公开(公告)日
2018-01-02
发明(设计)人
李成明 赵云 林亮珍 安康 郑宇亭 黑立富 刘金龙 魏俊俊 陈良贤
申请人
申请人地址
100083 北京市海淀区学院路30号
IPC主分类号
C30B2904
IPC分类号
C30B2512
代理机构
北京市广友专利事务所有限责任公司 11237
代理人
张仲波
法律状态
专利申请权、专利权的转移
国省代码
引用
下载
收藏
共 50 条
[1]
微波等离子体化学气相沉积法生长多晶金刚石片的方法 [P]. 
宋彦军 ;
陶隆凤 ;
王礼胜 .
中国专利 :CN109911894A ,2019-06-21
[2]
微波等离子体化学气相沉积法制备金刚石膜方法 [P]. 
王若民 ;
赵龙 ;
赵博文 ;
王鑫 ;
仇茹嘉 ;
杨海涛 ;
谢佳 ;
柯艳国 ;
高博 ;
孔明 ;
汪玉 ;
王丽君 ;
陈嘉 ;
周梦良 .
中国专利 :CN113174582A ,2021-07-27
[3]
基于微波等离子体化学气相沉积法在石墨片上沉积金刚石膜的方法 [P]. 
胡晓君 ;
韩辰 ;
陈成克 ;
鲁少华 ;
叶志镇 .
中国专利 :CN119980181A ,2025-05-13
[4]
微波等离子体化学气相沉积金刚石反应装置 [P]. 
于宗旭 .
中国专利 :CN206635410U ,2017-11-14
[5]
一种基于微波等离子体化学气相沉积的单晶金刚石基片台 [P]. 
李庆利 ;
甄西合 ;
徐悟生 ;
赵丽媛 ;
朱逢锐 ;
朱逢旭 ;
杨春晖 .
中国专利 :CN215856452U ,2022-02-18
[6]
一种用于微波等离子体化学气相沉积法制备金刚石膜的基片台 [P]. 
李文君 ;
周霖 ;
程云 ;
冯真 ;
李春霞 ;
单李军 ;
邓德荣 ;
黎明 ;
杨兴繁 .
中国专利 :CN206751920U ,2017-12-15
[7]
利用微波等离子体化学气相沉积法制备纳米金刚石薄膜的方法 [P]. 
陆桥宏 ;
何东旺 .
中国专利 :CN114231953A ,2022-03-25
[8]
微波等离子体化学气相沉积金刚石反应装置 [P]. 
于宗旭 .
中国专利 :CN106835070A ,2017-06-13
[9]
微波等离子体化学气相沉积金刚石反应装置 [P]. 
丁海兵 ;
梁瑞 ;
吉忠浩 ;
陆登峰 .
中国专利 :CN118979242A ,2024-11-19
[10]
一种用于微波等离子体化学气相沉积法制备金刚石膜的基片台 [P]. 
李文君 ;
周霖 ;
程云 ;
冯真 ;
李春霞 ;
单李军 ;
邓德荣 ;
黎明 ;
杨兴繁 .
中国专利 :CN106929828A ,2017-07-07