一种化学气相沉积设备

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN202020189300.X

申请日：

2020-02-20

公开(公告)号：

CN211872082U

公开(公告)日：

2020-11-06

发明(设计)人：

不公告发明人

申请人：

申请人地址：

300000 天津市北辰区洛河道2号天津职业大学

IPC主分类号：

C23C16455

IPC分类号：

C23C16511

代理机构：

北京艾皮专利代理有限公司 11777

代理人：

马小辉

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-11-06	授权	授权
2021-08-17	专利申请权、专利权的转移	专利权的转移 IPC(主分类):C23C 16/455 登记生效日:20210805 变更事项:专利权人变更前权利人:杨翠兰变更后权利人:上海铂世光半导体科技有限公司变更事项:地址变更前权利人:300000 天津市北辰区洛河道2号天津职业大学变更后权利人:201707 上海市青浦区新科路303号1幢

共 50 条

[1]

化学气相沉积设备 [P].

周向阳 .

中国专利 :CN223373222U ,2025-09-23

[2]

化学气相沉积设备 [P].

许亮 .

中国专利 :CN201962357U ,2011-09-07

[3]

化学气相沉积设备 [P].

周向阳 .

中国专利 :CN223268760U ,2025-08-26

[4]

化学气相沉积设备 [P].

郭国平 ;

杨晖 ;

李海欧 ;

曹刚 ;

肖明 ;

郭光灿 .

中国专利 :CN207418858U ,2018-05-29

[5]

化学气相沉积设备 [P].

李一成 ;

汪宇澄 .

中国专利 :CN202499905U ,2012-10-24

[6]

化学气相沉积设备 [P].

左敏 .

中国专利 :CN206256165U ,2017-06-16

[7]

一种化学气相沉积设备 [P].

张文锋 ;

马峰 ;

徐亮 .

中国专利 :CN201049963Y ,2008-04-23

[8]

一种化学气相沉积设备 [P].

丁伟 ;

郑振宇 .

中国专利 :CN221297136U ,2024-07-09

[9]

一种化学气相沉积设备 [P].

崔名扬 ;

任丽 ;

贾莹莹 ;

付亮 .

中国专利 :CN223705816U ,2025-12-23

[10]

化学气相沉积炉及化学气相沉积设备 [P].

朱伟杰 ;

顾志强 ;

戴建庭 ;

董宁 ;

李强 .

中国专利 :CN209522919U ,2019-10-22

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