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器件制造方法和计算机程序
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202080029285.5
申请日
:
2020-02-27
公开(公告)号
:
CN113811817A
公开(公告)日
:
2021-12-17
发明(设计)人
:
R·F·科克斯
G·L·加托比吉奥
P·J·J·E·霍夫纳格尔斯
M·M·范奥尼
M·J·范德赞登
J·A·维埃拉·萨拉斯
申请人
:
申请人地址
:
荷兰维德霍温
IPC主分类号
:
G03F720
IPC分类号
:
代理机构
:
北京市金杜律师事务所 11256
代理人
:
赵林琳
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2022-05-06
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20200227
2021-12-17
公开
公开
共 50 条
[1]
器件制造方法和计算机程序
[P].
M·洛维斯奇
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M·洛维斯奇
;
M·M·T·M·迪里奇斯
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M·M·T·M·迪里奇斯
;
K·范恩根申奥
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K·范恩根申奥
;
H·范德拉安
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H·范德拉安
;
M·H·A·里德斯
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M·H·A·里德斯
;
E·麦戈
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E·麦戈
;
U·米坎
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U·米坎
.
中国专利
:CN1530747A
,2004-09-22
[2]
器件制造方法和计算机程序产品
[P].
R·J·F·范哈伦
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R·J·F·范哈伦
;
M·范德沙尔
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M·范德沙尔
;
E·弗鲁格登希尔
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E·弗鲁格登希尔
;
H·塞维尔
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H·塞维尔
.
中国专利
:CN101025571A
,2007-08-29
[3]
器件制造方法和计算机程序产品
[P].
L·H·M·韦尔斯塔彭
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L·H·M·韦尔斯塔彭
;
E·C·莫斯
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E·C·莫斯
.
中国专利
:CN1987658A
,2007-06-27
[4]
光刻设备、器件制造方法和计算机程序产品
[P].
朱德克斯·玛丽·多米尼克斯·斯多尔德瑞杰
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朱德克斯·玛丽·多米尼克斯·斯多尔德瑞杰
;
埃瑞克·罗洛夫·鲁普斯卓
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埃瑞克·罗洛夫·鲁普斯卓
;
海涅·迈尔·马尔德
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海涅·迈尔·马尔德
;
蒂莫西斯·弗朗西斯克斯·森格斯
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蒂莫西斯·弗朗西斯克斯·森格斯
;
弗瑞尔克·亚里安·斯多费尔斯
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弗瑞尔克·亚里安·斯多费尔斯
;
劳伦第斯·卡瑞纳斯·乔瑞特斯马
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劳伦第斯·卡瑞纳斯·乔瑞特斯马
;
赖纳·玛丽亚·琼伯鲁特
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赖纳·玛丽亚·琼伯鲁特
.
中国专利
:CN101196695A
,2008-06-11
[5]
光刻设备、器件制造方法和计算机程序
[P].
P·提奈马恩斯
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P·提奈马恩斯
;
A·布里克尔
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A·布里克尔
;
E·鲁普斯特拉
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E·鲁普斯特拉
.
中国专利
:CN103946750B
,2014-07-23
[6]
成像器件、方法和计算机程序
[P].
金光史吕志
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华为技术有限公司
华为技术有限公司
金光史吕志
;
阳一仲宗根
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华为技术有限公司
华为技术有限公司
阳一仲宗根
;
西蒙·格罗什
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华为技术有限公司
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西蒙·格罗什
;
尤尔根·塞勒尔
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华为技术有限公司
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尤尔根·塞勒尔
;
安德烈·考普
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华为技术有限公司
华为技术有限公司
安德烈·考普
;
小柳雅彦
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华为技术有限公司
华为技术有限公司
小柳雅彦
;
赵兆
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华为技术有限公司
华为技术有限公司
赵兆
.
中国专利
:CN119137969A
,2024-12-13
[7]
方法、光学器件和计算机程序
[P].
马茨·赫德贝里
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马茨·赫德贝里
.
中国专利
:CN101019056A
,2007-08-15
[8]
电子器件、方法和计算机程序
[P].
丁庆
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机构:
索尼半导体解决方案公司
索尼半导体解决方案公司
丁庆
;
拉基·莫汉
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机构:
索尼半导体解决方案公司
索尼半导体解决方案公司
拉基·莫汉
.
日本专利
:CN115380320B
,2025-11-28
[9]
电子器件、方法和计算机程序
[P].
丁庆
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丁庆
;
拉基·莫汉
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拉基·莫汉
.
中国专利
:CN115380320A
,2022-11-22
[10]
方法、装置、计算机程序产品和计算机程序
[P].
吴春丽
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吴春丽
;
B·P·塞比尔
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B·P·塞比尔
;
S·H·特蒂南
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S·H·特蒂南
.
中国专利
:CN111165040A
,2020-05-15
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