半导体集成电路的衬底和半导体集成电路的制造方法

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专利类型
发明
申请号
CN98119287.4
申请日
1998-09-17
公开(公告)号
CN1175492C
公开(公告)日
1999-06-09
发明(设计)人
国清辰也 园田贤一郎
申请人
申请人地址
日本东京都
IPC主分类号
H01L2710
IPC分类号
H01L2182
代理机构
中国专利代理(香港)有限公司
代理人
杨凯;叶恺东
法律状态
专利权的终止
国省代码
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共 50 条
[1]
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