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形成半导体元件及半导体影像感测器的方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN200510056629.9
申请日
:
2005-04-13
公开(公告)号
:
CN100419951C
公开(公告)日
:
2005-11-16
发明(设计)人
:
谢友岚
林志旻
王建忠
申请人
:
申请人地址
:
台湾省新竹科学工业园区新竹市力行六路八号
IPC主分类号
:
H01L2100
IPC分类号
:
H01L213105
H01L27146
代理机构
:
北京林达刘知识产权代理事务所
代理人
:
刘新宇
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2006-01-11
实质审查的生效
实质审查的生效
2008-09-17
授权
授权
2005-11-16
公开
公开
共 50 条
[1]
影像感测器及形成影像感测器的方法及半导体元件
[P].
郑允玮
论文数:
0
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郑允玮
;
周俊豪
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周俊豪
;
李国政
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李国政
;
陈英豪
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陈英豪
.
中国专利
:CN113540132A
,2021-10-22
[2]
影像感测器及半导体元件的形成方法
[P].
蒋尚义
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蒋尚义
;
王中枢
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王中枢
;
伍寿国
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伍寿国
;
杨敦年
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杨敦年
.
中国专利
:CN101106144A
,2008-01-16
[3]
半导体影像感测器和制造半导体影像感测器的方法
[P].
卢俊良
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卢俊良
;
邱钲皓
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邱钲皓
;
林焕恩
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林焕恩
;
周俊豪
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周俊豪
;
李国政
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李国政
.
中国专利
:CN114464634A
,2022-05-10
[4]
制造半导体装置及互补金属氧化物半导体影像感测器方法
[P].
邱威超
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
邱威超
;
刘永进
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
刘永进
;
张浚威
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
张浚威
;
郭景森
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
郭景森
;
许峰嘉
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
许峰嘉
.
中国专利
:CN118169970A
,2024-06-11
[5]
半导体结构、影像感测器和半导体结构的形成方法
[P].
谢丰键
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谢丰键
;
郑允玮
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郑允玮
;
胡维礼
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胡维礼
;
李国政
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李国政
;
陈信吉
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陈信吉
.
中国专利
:CN113053929A
,2021-06-29
[6]
半导体结构、影像感测器和半导体结构的形成方法
[P].
谢丰键
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
谢丰键
;
郑允玮
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
郑允玮
;
胡维礼
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
胡维礼
;
李国政
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
李国政
;
陈信吉
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
陈信吉
.
中国专利
:CN113053929B
,2025-03-28
[7]
互补金属氧化物半导体影像感测器及形成方法
[P].
吴扬
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吴扬
;
依那.派翠克
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依那.派翠克
;
张宇轩
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0
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张宇轩
;
金起弘
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金起弘
;
郁飞霞
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郁飞霞
.
中国专利
:CN107346775B
,2017-11-14
[8]
影像感测器及半导体结构
[P].
杨孟达
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0
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杨孟达
.
中国专利
:CN110972505A
,2020-04-07
[9]
半导体层叠体、半导体元件及半导体元件的制造方法
[P].
桥上洋
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机构:
信越化学工业株式会社
信越化学工业株式会社
桥上洋
.
日本专利
:CN116157550B
,2025-09-09
[10]
具有接合垫的金属氧化物半导体影像感测器及其形成方法
[P].
刘铭棋
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刘铭棋
;
傅士奇
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傅士奇
;
刘源鸿
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刘源鸿
;
陈威智
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陈威智
;
罗际兴
论文数:
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罗际兴
.
中国专利
:CN101231971B
,2008-07-30
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