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氧化物半导体薄膜、薄膜晶体管及溅镀靶材
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202010458017.7
申请日
:
2020-05-26
公开(公告)号
:
CN112018168A
公开(公告)日
:
2020-12-01
发明(设计)人
:
西山功兵
越智元隆
寺前裕美
川原田乔生
申请人
:
申请人地址
:
日本兵库县神户市中央区胁浜海岸通二丁目2番4号
IPC主分类号
:
H01L2924
IPC分类号
:
H01L29786
C23C1434
C23C1408
代理机构
:
北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205
代理人
:
杨文娟;臧建明
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2020-12-01
公开
公开
2020-12-18
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 29/24 申请日:20200526
共 50 条
[1]
氧化物半导体薄膜、薄膜晶体管及溅镀靶材
[P].
西山功兵
论文数:
0
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0
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机构:
株式会社神户制钢所
株式会社神户制钢所
西山功兵
;
越智元隆
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机构:
株式会社神户制钢所
株式会社神户制钢所
越智元隆
;
寺前裕美
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机构:
株式会社神户制钢所
株式会社神户制钢所
寺前裕美
;
川原田乔生
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机构:
株式会社神户制钢所
株式会社神户制钢所
川原田乔生
.
日本专利
:CN112018168B
,2024-09-20
[2]
氧化物半导体薄膜、薄膜晶体管及溅射靶
[P].
寺前裕美
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0
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寺前裕美
;
西山功兵
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西山功兵
;
越智元隆
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越智元隆
;
后藤裕史
论文数:
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0
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后藤裕史
.
中国专利
:CN113348562A
,2021-09-03
[3]
氧化物半导体薄膜、薄膜晶体管及溅射靶
[P].
越智元隆
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越智元隆
;
西山功兵
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西山功兵
;
寺前裕美
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寺前裕美
;
湖山贵之
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湖山贵之
.
中国专利
:CN114761607A
,2022-07-15
[4]
氧化物半导体薄膜、薄膜晶体管及溅射靶
[P].
越智元隆
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机构:
株式会社神户制钢所
株式会社神户制钢所
越智元隆
;
西山功兵
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机构:
株式会社神户制钢所
株式会社神户制钢所
西山功兵
;
寺前裕美
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机构:
株式会社神户制钢所
株式会社神户制钢所
寺前裕美
;
湖山贵之
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机构:
株式会社神户制钢所
株式会社神户制钢所
湖山贵之
.
日本专利
:CN114761607B
,2024-06-28
[5]
氧化物半导体薄膜以及薄膜晶体管
[P].
中山德行
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中山德行
.
中国专利
:CN104685634A
,2015-06-03
[6]
氧化物半导体薄膜、薄膜晶体管及溅射靶
[P].
寺前裕美
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机构:
株式会社神户制钢所
株式会社神户制钢所
寺前裕美
;
西山功兵
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机构:
株式会社神户制钢所
株式会社神户制钢所
西山功兵
;
越智元隆
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机构:
株式会社神户制钢所
株式会社神户制钢所
越智元隆
;
后藤裕史
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机构:
株式会社神户制钢所
株式会社神户制钢所
后藤裕史
.
日本专利
:CN113348562B
,2024-04-23
[7]
氧化物半导体薄膜和薄膜晶体管
[P].
中山德行
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0
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中山德行
;
西村英一郎
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西村英一郎
;
井藁正史
论文数:
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0
井藁正史
.
中国专利
:CN108962724A
,2018-12-07
[8]
氧化物半导体薄膜和薄膜晶体管
[P].
中山德行
论文数:
0
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中山德行
;
西村英一郎
论文数:
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0
西村英一郎
;
井藁正史
论文数:
0
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0
井藁正史
.
中国专利
:CN105393360B
,2016-03-09
[9]
氧化物半导体薄膜及制备方法、薄膜晶体管及制备方法
[P].
邱勇
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邱勇
;
赵云龙
论文数:
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赵云龙
;
段炼
论文数:
0
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段炼
.
中国专利
:CN102810483B
,2012-12-05
[10]
氧化物半导体薄膜、氧化物薄膜晶体管及其制备方法
[P].
林振国
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林振国
;
谢志强
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谢志强
;
李建
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李建
;
任思雨
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任思雨
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苏君海
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苏君海
;
李建华
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李建华
.
中国专利
:CN107527946A
,2017-12-29
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