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半导体装置及半导体装置的制造方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202080032665.4
申请日
:
2020-04-28
公开(公告)号
:
CN113795928A
公开(公告)日
:
2021-12-14
发明(设计)人
:
山崎舜平
村川努
安藤善范
掛端哲弥
佐藤优一
方堂凉太
申请人
:
申请人地址
:
日本神奈川
IPC主分类号
:
H01L29786
IPC分类号
:
H01L21336
H01L218239
H01L218242
H01L27105
H01L27108
H01L271156
代理机构
:
中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038
代理人
:
秦晨
法律状态
:
公开
国省代码
:
引用
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2021-12-14
公开
公开
2022-05-13
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 29/786 申请日:20200428
共 50 条
[1]
半导体装置以及半导体装置的制造方法
[P].
山崎舜平
论文数:
0
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山崎舜平
;
笹川慎也
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笹川慎也
;
栃林克明
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栃林克明
;
村川努
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村川努
;
高桥绘里香
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高桥绘里香
.
中国专利
:CN113196501A
,2021-07-30
[2]
半导体装置及半导体装置的制造方法
[P].
山崎舜平
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山崎舜平
;
半田拓哉
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半田拓哉
;
保坂泰靖
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保坂泰靖
;
三本菅正太
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三本菅正太
;
山根靖正
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山根靖正
;
冈崎健一
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冈崎健一
.
中国专利
:CN111418073A
,2020-07-14
[3]
半导体装置及半导体装置的制造方法
[P].
山崎舜平
论文数:
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机构:
株式会社半导体能源研究所
株式会社半导体能源研究所
山崎舜平
;
和久田真弘
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机构:
株式会社半导体能源研究所
株式会社半导体能源研究所
和久田真弘
;
山出直人
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机构:
株式会社半导体能源研究所
株式会社半导体能源研究所
山出直人
;
村川努
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机构:
株式会社半导体能源研究所
株式会社半导体能源研究所
村川努
;
国武宽司
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机构:
株式会社半导体能源研究所
株式会社半导体能源研究所
国武宽司
;
中山智则
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机构:
株式会社半导体能源研究所
株式会社半导体能源研究所
中山智则
.
日本专利
:CN121014275A
,2025-11-25
[4]
半导体装置及半导体装置的制造方法
[P].
山崎舜平
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山崎舜平
.
中国专利
:CN110731013A
,2020-01-24
[5]
半导体装置及半导体装置的制造方法
[P].
山崎舜平
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机构:
株式会社半导体能源研究所
株式会社半导体能源研究所
山崎舜平
;
栃林克明
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机构:
株式会社半导体能源研究所
株式会社半导体能源研究所
栃林克明
;
方堂凉太
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机构:
株式会社半导体能源研究所
株式会社半导体能源研究所
方堂凉太
;
菅谷健太郎
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机构:
株式会社半导体能源研究所
株式会社半导体能源研究所
菅谷健太郎
;
山出直人
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机构:
株式会社半导体能源研究所
株式会社半导体能源研究所
山出直人
.
日本专利
:CN111788698B
,2025-07-01
[6]
半导体装置及半导体装置的制造方法
[P].
方堂凉太
论文数:
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机构:
株式会社半导体能源研究所
株式会社半导体能源研究所
方堂凉太
;
远藤俊弥
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机构:
株式会社半导体能源研究所
株式会社半导体能源研究所
远藤俊弥
;
中野贤
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机构:
株式会社半导体能源研究所
株式会社半导体能源研究所
中野贤
;
泽井宽美
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机构:
株式会社半导体能源研究所
株式会社半导体能源研究所
泽井宽美
;
山崎舜平
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机构:
株式会社半导体能源研究所
株式会社半导体能源研究所
山崎舜平
.
日本专利
:CN118872402A
,2024-10-29
[7]
半导体装置及半导体装置的制造方法
[P].
山崎舜平
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山崎舜平
;
栃林克明
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栃林克明
;
方堂凉太
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方堂凉太
;
菅谷健太郎
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菅谷健太郎
;
山出直人
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山出直人
.
中国专利
:CN111788698A
,2020-10-16
[8]
半导体装置及半导体装置的制造方法
[P].
柳泽悠一
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机构:
株式会社半导体能源研究所
株式会社半导体能源研究所
柳泽悠一
;
竹内敏彦
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机构:
株式会社半导体能源研究所
株式会社半导体能源研究所
竹内敏彦
;
泽井宽美
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机构:
株式会社半导体能源研究所
株式会社半导体能源研究所
泽井宽美
.
日本专利
:CN121241677A
,2025-12-30
[9]
半导体装置及半导体装置的制造方法
[P].
山崎舜平
论文数:
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机构:
株式会社半导体能源研究所
株式会社半导体能源研究所
山崎舜平
;
栃林克明
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机构:
株式会社半导体能源研究所
株式会社半导体能源研究所
栃林克明
;
方堂凉太
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机构:
株式会社半导体能源研究所
株式会社半导体能源研究所
方堂凉太
;
菅谷健太郎
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机构:
株式会社半导体能源研究所
株式会社半导体能源研究所
菅谷健太郎
;
山出直人
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机构:
株式会社半导体能源研究所
株式会社半导体能源研究所
山出直人
.
日本专利
:CN120583708A
,2025-09-02
[10]
半导体装置及半导体装置的制造方法
[P].
山崎舜平
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山崎舜平
;
松林大介
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松林大介
;
加藤清
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加藤清
;
栃林克明
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栃林克明
;
长塚修平
论文数:
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长塚修平
.
中国专利
:CN110506328A
,2019-11-26
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