注入装置的离子源和离子注入方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201210559934.X

申请日：

2012-12-20

公开(公告)号：

CN103887132A

公开(公告)日：

2014-06-25

发明(设计)人：

单易飞邬璐磊董春荣

申请人：

申请人地址：

201203 上海市浦东新区张江路18号

IPC主分类号：

H01J3708

IPC分类号：

H01J2708 H01J37317

代理机构：

北京集佳知识产权代理有限公司 11227

代理人：

骆苏华

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2016-12-28	授权	授权
2014-06-25	公开	公开
2014-07-16	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101583892802 IPC(主分类):H01J 37/08 专利申请号:201210559934X 申请日:20121220

共 50 条

[1]

离子源和离子注入装置 [P].

佐佐木德康 ;

东明男 ;

寺泽寿浩 .

中国专利 :CN110100296B ,2019-08-06

[2]

离子源和离子注入装置 [P].

山下贵敏 .

中国专利 :CN102832094A ,2012-12-19

[3]

离子源和离子注入装置 [P].

山元徹朗 .

中国专利 :CN110137063A ,2019-08-16

[4]

离子源及离子注入装置 [P].

井内裕 .

中国专利 :CN108054071B ,2018-05-18

[5]

离子源以及离子注入装置 [P].

许飞 ;

秦斌 ;

汪东 ;

周智 ;

於鹏飞 .

中国专利 :CN104425198A ,2015-03-18

[6]

操作离子源的方法和离子注入装置 [P].

井内裕 ;

土肥正二郎 ;

安东靖典 ;

松田恭博 .

中国专利 :CN1953129A ,2007-04-25

[7]

离子源和离子注入器及包括离子源的方法 [P].

金勇权 ;

李在哲 ;

姜成镐 ;

李相哲 ;

郑义庸 .

中国专利 :CN1758409A ,2006-04-12

[8]

离子注入方法和离子注入装置 [P].

刘科 ;

马建坤 ;

曲佳佳 ;

段晋杰 .

中国专利 :CN119864281A ,2025-04-22

[9]

用于离子注入系统的离子源阴极 [P].

T·N·霍尔斯基 ;

W·E·雷伊诺尔斯 ;

R·M·克劳蒂尔 .

中国专利 :CN1173608C ,1998-10-07

[10]

离子注入装置以及离子注入装置的控制方法 [P].

大浦正英 ;

今井大辅 ;

二宫史郎 .

中国专利 :CN104810231B ,2015-07-29

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