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一种用于单晶硅片清洗的清洗装置
被引:0
专利类型
:
实用新型
申请号
:
CN201821360040.7
申请日
:
2018-08-22
公开(公告)号
:
CN208938929U
公开(公告)日
:
2019-06-04
发明(设计)人
:
陈峰
申请人
:
申请人地址
:
324000 浙江省衢州市开化县华埠镇银辉路5号
IPC主分类号
:
H01L2167
IPC分类号
:
代理机构
:
昆明合众智信知识产权事务所 53113
代理人
:
钱磊
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2019-06-04
授权
授权
2021-07-30
专利权的终止
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L 21/67 申请日:20180822 授权公告日:20190604 终止日期:20200822
共 50 条
[1]
一种用于单晶硅片清洗的清洗装置
[P].
张世杰
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
张世杰
.
中国专利
:CN214263010U
,2021-09-24
[2]
一种单晶硅片的高效清洗装置
[P].
蔡建名
论文数:
0
引用数:
0
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0
蔡建名
.
中国专利
:CN215089372U
,2021-12-10
[3]
一种单片清洗的单晶硅片清洗装置
[P].
陈峰
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
陈峰
.
中国专利
:CN208938928U
,2019-06-04
[4]
一种单晶硅片清洗装置
[P].
陈子轩
论文数:
0
引用数:
0
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0
陈子轩
;
孔繁政
论文数:
0
引用数:
0
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0
孔繁政
;
陈亚男
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
陈亚男
.
中国专利
:CN218361035U
,2023-01-24
[5]
一种单晶硅片清洗装置
[P].
李文
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
李文
.
中国专利
:CN217990231U
,2022-12-09
[6]
一种单晶硅片的清洗装置
[P].
严循成
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
严循成
.
中国专利
:CN218498029U
,2023-02-17
[7]
一种单晶硅片的清洗装置
[P].
刘德超
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
清电光伏科技有限公司
清电光伏科技有限公司
刘德超
;
张娟宁
论文数:
0
引用数:
0
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机构:
清电光伏科技有限公司
清电光伏科技有限公司
张娟宁
;
张利升
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引用数:
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机构:
清电光伏科技有限公司
清电光伏科技有限公司
张利升
;
杨凯文
论文数:
0
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0
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0
机构:
清电光伏科技有限公司
清电光伏科技有限公司
杨凯文
;
刘丽君
论文数:
0
引用数:
0
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机构:
清电光伏科技有限公司
清电光伏科技有限公司
刘丽君
.
中国专利
:CN220444521U
,2024-02-06
[8]
单晶硅片清洗装置
[P].
朱玲
论文数:
0
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朱玲
;
朱汪龙
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0
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0
朱汪龙
;
王兰
论文数:
0
引用数:
0
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0
王兰
.
中国专利
:CN206271669U
,2017-06-20
[9]
单晶硅片清洗装置
[P].
曹建鸿
论文数:
0
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0
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0
曹建鸿
.
中国专利
:CN106955864A
,2017-07-18
[10]
单晶硅片清洗装置
[P].
向菊
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
向菊
.
中国专利
:CN213079309U
,2021-04-30
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