共 50 条
[1]
[2]
[3]
[4]
[5]
[6]
[7]
[8]
[9]
[10]
半导体制造装置及半导体装置的制造方法
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202010756618.6
申请日：
2020-07-31
公开(公告)号：
CN112530820A
公开(公告)日：
2021-03-19
发明(设计)人：
黑泽哲也
申请人：
申请人地址：
日本东京
IPC主分类号：
H01L21603
IPC分类号：
代理机构：
永新专利商标代理有限公司 72002
代理人：
徐殿军
法律状态：
实质审查的生效
国省代码：
引用
下载
收藏
法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2021-04-06 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/603 申请日:20200731 |
| 2021-03-19 | 公开 | 公开 |