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一种半导体反应设备
被引：0
申请号：
CN202220637661.5
申请日：
2022-03-22
公开(公告)号：
CN217485406U
公开(公告)日：
2022-09-23
发明(设计)人：
项习飞
田才忠
林保璋
李士昌
申请人：
申请人地址：
102600 北京市大兴区北京经济技术开发区荣华南路15号院2号楼7层703室（北京自贸试验区高端产业片区亦庄组团）
IPC主分类号：
H01L2167
IPC分类号：
代理机构：
北京市竞天公诚律师事务所 11770
代理人：
陈果
法律状态：
授权
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2022-09-23 | 授权 | 授权 |