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一种用于半导体反应设备的调压装置及半导体反应设备
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202211180304.1
申请日：
2022-09-26
公开(公告)号：
CN115692259B
公开(公告)日：
2025-09-26
发明(设计)人：
李景舒
申请人：
盛吉盛（宁波）半导体科技有限公司
盛吉盛半导体科技（北京）有限公司
申请人地址：
315100 浙江省宁波市鄞州区云龙镇石桥村
IPC主分类号：
H01L21/67
IPC分类号：
代理机构：
北京市竞天公诚律师事务所 11770
代理人：
孙磊;徐民
法律状态：
授权
国省代码：
安徽省
宣城市
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2025-09-26 | 授权 | 授权 |