用于提升PECVD镀膜均匀性的装置

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN201220662028.8

申请日：

2012-12-05

公开(公告)号：

CN203049033U

公开(公告)日：

2013-07-10

发明(设计)人：

任现坤姜言森张春艳程亮贾河顺徐振华

申请人：

申请人地址：

250103 山东省济南市经十东路30766号力诺科技园

IPC主分类号：

C23C16455

IPC分类号：

C23C16505

代理机构：

济南舜源专利事务所有限公司 37205

代理人：

宋玉霞

法律状态：

专利权的终止

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2018-11-23	专利权的终止	未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C23C 16/455 申请日:20121205 授权公告日:20130710 终止日期:20171205
2013-07-10	授权	授权

共 50 条

[1]

提升PECVD镀膜均匀性的装置 [P].

任现坤 ;

姜言森 ;

张春艳 ;

程亮 ;

贾河顺 ;

徐振华 .

中国专利 :CN203049035U ,2013-07-10

[2]

一种用于提升PECVD镀膜均匀性的装置 [P].

任现坤 ;

姜言森 ;

张春艳 ;

程亮 ;

贾河顺 ;

徐振华 .

中国专利 :CN102943251B ,2013-02-27

[3]

用于提升PECVD镀膜均匀性装置 [P].

沈亚南 .

中国专利 :CN221854766U ,2024-10-18

[4]

一种提升PECVD镀膜均匀性的装置 [P].

张云鹏 ;

王玉 ;

赵科巍 ;

杨飞飞 ;

梁玲 ;

李雪方 .

中国专利 :CN216473476U ,2022-05-10

[5]

用于改善PECVD镀膜均匀性的挡气板 [P].

静福印 ;

陈文浩 ;

刘仁中 ;

张斌 .

中国专利 :CN205241785U ,2016-05-18

[6]

用于改善沉积炉镀膜均匀性的气流装置 [P].

何佳龙 ;

袁正国 .

中国专利 :CN222106751U ,2024-12-03

[7]

PECVD镀膜装置 [P].

陈立国 ;

吕旭东 ;

李海燕 ;

张受业 ;

陈伟岸 ;

贺艳 ;

赵萌 ;

朱惠钦 .

中国专利 :CN203653695U ,2014-06-18

[8]

一种多晶PECVD镀膜均匀性优化的方法 [P].

王菲 ;

聂文君 ;

张伟 ;

王路路 ;

贾慧君 ;

李文敏 .

中国专利 :CN112760614A ,2021-05-07

[9]

一种PECVD镀膜装置 [P].

周士杰 ;

陈圣铁 .

中国专利 :CN206447940U ,2017-08-29

[10]

PECVD镀膜装置的电极结构 [P].

吕旭东 ;

陈立国 ;

李海燕 ;

张受业 ;

陈伟岸 ;

贺艳 ;

赵萌 ;

朱惠钦 .

中国专利 :CN203653694U ,2014-06-18

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