一种非平衡磁控溅射镀锌装置

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN201720229080.7

申请日：

2017-03-10

公开(公告)号：

CN206814838U

公开(公告)日：

2017-12-29

发明(设计)人：

马志洋

申请人：

申请人地址：

224400 江苏省盐城市阜宁县阜城镇阜城大街38-4号

IPC主分类号：

C23C1435

IPC分类号：

C23C1454

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2017-12-29	授权	授权
2020-03-10	专利权的终止	未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C23C 14/35 申请日:20170310 授权公告日:20171229 终止日期:20190310

共 50 条

[1]

一种非平衡磁控溅射镀钽装置 [P].

陈光英 ;

王国华 ;

宋坤 ;

刘江 .

中国专利 :CN216808951U ,2022-06-24

[2]

磁极辅助非平衡磁控溅射装置 [P].

石永敬 .

中国专利 :CN106637109A ,2017-05-10

[3]

非平衡磁控溅射电极及系统 [P].

石永敬 .

中国专利 :CN105908147A ,2016-08-31

[4]

闭合磁场非平衡磁控溅射镀膜设备 [P].

金广福 .

中国专利 :CN102653857A ,2012-09-05

[5]

一种闭合磁场非平衡磁控溅射镀膜设备 [P].

金广福 .

中国专利 :CN202643826U ,2013-01-02

[6]

一种多维磁控溅射装置及磁控溅射系统 [P].

明昕 ;

王君 ;

王利晨 ;

熊杰夫 ;

满其奎 ;

沈保根 .

中国专利 :CN120082857A ,2025-06-03

[7]

一种等离子体增强非平衡磁控溅射方法 [P].

徐军 ;

马腾才 ;

邓新绿 ;

张家良 ;

陆文祺 ;

董闯 .

中国专利 :CN1338530A ,2002-03-06

[8]

非平衡平面磁控溅射阴极及其镀膜装置 [P].

范毓殿 ;

王百海 ;

黄炽雄 ;

乔治·波纳瑟斯 .

中国专利 :CN1109127C ,1999-04-28

[9]

轴承滚柱非平衡磁控溅射离子镀装置 [P].

刘长明 ;

陈玲芳 .

中国专利 :CN203999795U ,2014-12-10

[10]

磁控溅射装置 [P].

弥谦 ;

杭凌侠 ;

郭忠达 ;

梁海峰 ;

徐均琪 ;

孙国斌 ;

惠迎雪 .

中国专利 :CN201250284Y ,2009-06-03

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